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1. (WO2018070327) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/070327    国際出願番号:    PCT/JP2017/036196
国際公開日: 19.04.2018 国際出願日: 04.10.2017
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/00 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: KANEKO Tetsurou; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP)
代理人: AMANO Kazunori; (JP)
優先権情報:
2016-201995 13.10.2016 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST-PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition having superior LWR performance, CDU performance, resolution, cross-sectional-shape rectangularity, and exposure margin. Provided is a radiation-sensitive resin composition that contains: a polymer component having first, second, and third structural units in the same or different polymers; and a radiation-sensitive acid generator component containing first and second radiation-sensitive acid generators, wherein the first structural unit contains a group represented by formula (1), the second structural unit contains a hydroxyl group bonded with an aromatic ring, and the third structural unit contains an acid-dissociable group, and wherein the first acid generator generates a sulfonic acid in which a fluorine atom or a monovalent fluorinated hydrocarbon group is bonded with a carbon atom adjacent to a sulfo group, and the second acid generator generates a sulfonic acid in which a fluorine atom or a monovalent fluorinated hydrocarbon group is not bonded with any of a carbon atom adjacent to a sulfo group and a carbon atom adjacent thereto or a carboxylic acid in which a fluorine atom or a monovalent fluorinated hydrocarbon group is bonded with a carbon atom adjacent to a carboxy group.
(FR)La présente invention a pour objectif de fournir une composition de résine sensible au rayonnement ayant une performance du LWR, une performance de la CDU, une résolution, une rectangularité de forme transversale, et une marge d'exposition qui sont supérieures. L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui contient : un composant polymère ayant des première, deuxième, et troisième unités structurales dans les mêmes ou différents polymères ; et un composant générateur d'acide sensible au rayonnement contenant des premier et deuxième générateurs d'acide sensibles au rayonnement, dans laquelle la première unité structurale contient un groupe représenté par la formule (1), la deuxième unité structurale contient un groupe hydroxyle lié à un noyau aromatique, et la troisième unité structurale contient un groupe dissociable par un acide, et dans laquelle le premier générateur d'acide générant un acide sulfonique dans lequel un atome de fluor ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent est lié avec un atome de carbone adjacent à un groupe sulfo, et le deuxième générateur d'acide génère un acide sulfonique dans lequel un atome de fluor ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent n'est pas lié avec l'un quelconque parmi un atome de carbone adjacent à un groupe sulfo et un atome de carbone adjacent à celui-ci ou un acide carboxylique dans lequel un atome de fluor ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent est lié avec un atome de carbone adjacent à un groupe carboxy.
(JA)本発明は、優れたLWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性及び露光余裕度を伴う感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。同一又は異なる重合体中に、第1、第2及び第3構造単位を有する重合体成分と、第1及び第2感放射線性酸発生剤を含む感放射線性酸発生剤成分とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、第1構造単位が下記式(1)で表される基を、第2構造単位が芳香環に結合した水酸基を、第3構造単位が酸解離性基を含み、第1酸発生剤がスルホ基に隣接する炭素原子にフッ素原子若しくは1価のフッ素化炭化水素基が結合するスルホン酸を、第2酸発生剤がスルホ基に隣接する炭素原子及びこれに隣接する炭素原子のいずれにもフッ素原子若しくは1価のフッ素化炭化水素基が結合していないスルホン酸、又はカルボキシ基に隣接する炭素原子にフッ素原子若しくは1価のフッ素化炭化水素基が結合するカルボン酸を発生する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)