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1. (WO2018070284) 気相プロセス用再熱捕集装置
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国際公開番号: WO/2018/070284 国際出願番号: PCT/JP2017/035784
国際公開日: 19.04.2018 国際出願日: 02.10.2017
IPC:
C23C 16/44 (2006.01) ,B01D 53/70 (2006.01) ,H01L 21/205 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34
廃ガスの化学的または生物学的浄化
46
構造が特定される成分の除去
68
ハロゲンまたはハロゲン化合物
70
有機ハロゲン化合物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20
基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205
固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
出願人:
株式会社IHI IHI CORPORATION [JP/JP]; 東京都江東区豊洲三丁目1番1号 1-1, Toyosu 3-chome, Koto-ku, Tokyo 1358710, JP
発明者:
大塚 悠太 OOTSUKA Yuuta; JP
田中 康智 TANAKA Yasutomo; JP
久保田 渉 KUBOTA Wataru; JP
石崎 雅人 ISHIZAKI Masato; JP
代理人:
三好 秀和 MIYOSHI Hidekazu; JP
高橋 俊一 TAKAHASHI Shunichi; JP
伊藤 正和 ITO Masakazu; JP
高松 俊雄 TAKAMATSU Toshio; JP
優先権情報:
2016-20231314.10.2016JP
発明の名称: (EN) REHEATING COLLECTION DEVICE FOR GAS PHASE PROCESS
(FR) DISPOSITIF DE COLLECTE AVEC RÉCHAUFFAGE POUR PROCÉDÉ EN PHASE GAZEUSE
(JA) 気相プロセス用再熱捕集装置
要約:
(EN) A reheating collection device for a gas phase process is provided with: a container which extends in an axial direction along an axis and delimits a chamber; an inflow path and a gas discharge path which are connected to the chamber and arranged so as to be spaced apart from each other in the axial direction; and a heater which heats the chamber between the inflow path and the gas discharge path.
(FR) Cette invention concerne un dispositif de collecte avec réchauffage pour un procédé en phase gazeuse comprenant : un récipient qui s'étend dans un sens axial le long d'un axe et délimite une chambre; une voie d'entrée et une voie d'évacuation de gaz qui sont reliées à la chambre et conçues pour être espacées l'une de l'autre dans le sens axial; et un dispositif de chauffage qui chauffe la chambre entre la voie d'entrée et la voie de décharge de gaz.
(JA) 気相プロセス用再熱捕集装置は、軸に沿う軸方向に延びて室を画する容器と、それぞれ前記室に連通し、前記軸方向に互いに離れて配置された流入路および排気路と、前記流入路と前記排気路との間において前記室を加熱するヒータと、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)