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1. (WO2018070184) 膜付ガラス板の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/070184 国際出願番号: PCT/JP2017/033395
国際公開日: 19.04.2018 国際出願日: 15.09.2017
IPC:
C23F 1/28 (2006.01) ,C03C 17/36 (2006.01) ,C23C 18/18 (2006.01) ,C23C 18/32 (2006.01) ,C23F 1/18 (2006.01) ,C25D 5/54 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
F
機械方法によらない表面からの金属質材料の除去;金属質材料の防食;鉱皮の抑制一般;少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程
1
化学的手段による金属質材料のエッチング
10
エッチング組成物
14
水溶液組成物
16
酸性組成物
28
鉄族金属をエッチングするためのもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
36
少くとも1つの被覆が金属であるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
18
被覆される材料の前処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
31
金属による被覆
32
鉄,コバルトまたはニッケルのうちいずれか一種による被覆;これら金属の1つとりんまたはほう素の混合物で被覆するもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
F
機械方法によらない表面からの金属質材料の除去;金属質材料の防食;鉱皮の抑制一般;少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程
1
化学的手段による金属質材料のエッチング
10
エッチング組成物
14
水溶液組成物
16
酸性組成物
18
銅または銅合金をエッチングするためのもの
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
5
方法に特徴のある電気鍍金;加工品の前処理または後処理
54
非金属表面の電気鍍金
出願人:
日本電気硝子株式会社 NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 滋賀県大津市晴嵐二丁目7番1号 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639, JP
発明者:
田中 宏明 TANAKA, Hiroaki; JP
代理人:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
優先権情報:
2016-19980711.10.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE WITH FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE DE VERRE FILMÉE
(JA) 膜付ガラス板の製造方法
要約:
(EN) Provided is a method for producing a glass plate with a film, which is capable of reducing the amount of side etching. A method for producing a glass plate with a film, which comprises: a step for forming a multilayer film 6 on a glass plate 1, said multilayer film 6 having an inorganic film 2 that contains at least a noble metal and a first plating metal film 3 that is formed on the inorganic film 2; and a step for patterning the multilayer film 6 with use of an etching liquid. This method for producing a glass plate with a film is characterized in that the etching liquid contains 2-5% by mass of hydrogen peroxide, 0.25% by mass or less of an oxalic acid dihydrate and 0.75% by mass or less of an oxalic acid salt.
(FR) Cette invention concerne un procédé de production d'une plaque de verre filmée, qui est capable de réduire la quantité de gravure latérale. Le procédé de production d'une plaque de verre filmée selon l'invention comprend : une étape de formation d'un film multicouche 6 sur une plaque de verre 1, ledit film multicouche 6 comportant un film inorganique 2 qui contient au moins un métal noble et un premier film métallique de placage 3 qui est formé sur le film inorganique 2 ; et une étape de formation de motifs sur le film multicouche 6 à l'aide d'un liquide de gravure. Ce procédé de fabrication d'une plaque de verre filmée est caractérisé en ce que le liquide de gravure contient de 2 à 5 % en poids de peroxyde d'hydrogène, 0,25 % en poids ou moins d'acide oxalique dihydraté et 0,75 % en poids ou moins de sel d'acide oxalique.
(JA) サイドエッチングの量を小さくすることができる膜付ガラス板の製造方法を提供する。 少なくとも貴金属を含む無機物膜2と、無機物膜2の上に形成された第1のめっき金属膜3とを有する積層膜6を、ガラス板1の上に形成する工程と、エッチング液を用いて積層膜6をパターニングする工程とを備える膜付ガラス板の製造方法であって、エッチング液が、2~5質量%の過酸化水素、及び0.25質量%以下のシュウ酸二水和物、及び0.75質量%以下のシュウ酸塩を含むことを特徴としている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)