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1. (WO2018066611) 蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び有機ELディスプレイの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/066611    国際出願番号:    PCT/JP2017/036161
国際公開日: 12.04.2018 国際出願日: 04.10.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP)
発明者: KAWASAKI Hiroshi; (JP).
OBATA Katsunari; (JP)
代理人: INTECT INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Daiwa Kojimachi 4-chome Bldg. 4F, 4-7-2, Kojimachi, Chiyoda-ku, Tokyo 1020083 (JP).
ISHIBASHI Yoshinori; (JP)
優先権情報:
2016-198191 06.10.2016 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL DISPLAY
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN AFFICHAGE EL ORGANIQUE
(JA) 蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び有機ELディスプレイの製造方法
要約: front page image
(EN)This method for producing a vapor deposition mask is used to produce a vapor deposition mask in which a metal mask 10 having a metal mask opening 15 is laminated on one surface of a resin mask 20 having resin mask openings 25 corresponding to a pattern to be formed by vapor deposition. In the method, the multiple resin mask openings 25 are formed so that in a thickness-direction cross section of the resin mask, one resin mask opening 25a among the multiple resin mask openings 25 is formed so that the acute angle (θ1) between one inner wall surface defining the one resin mask opening and the other surface of the resin mask and the acute angle (θ2) between the other inner wall surface defining the one resin mask opening and the other surface of the resin mask are different from each other.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'un masque pour dépôt en phase vapeur qui est utilisé pour obtenir un masque pour dépôt en phase vapeur constitué d'un masque métallique 10 ayant une ouverture de masque métallique 15 stratifié sur une surface de masque en résine 20 ayant des ouvertures de masque en résine 25 correspondant au motif à former par dépôt en phase vapeur. Dans le procédé, les multiples ouvertures de masque en résine 25 sont formées de façon que, dans une section transversale dans le sens de l'épaisseur du masque en résine, une ouverture de masque en résine 25a parmi les multiples ouvertures de masque en résine 25 soit formée de façon que l'angle aigu (θ1) entre une surface de paroi interne définissant ladite ouverture de masque en résine et l'autre surface du masque en résine et que l'angle aigu (θ2) entre l'autre surface de paroi interne définissant ladite ouverture de masque en résine et l'autre surface du masque en résine soient différents l'un de l'autre.
(JA)蒸着作製するパターンに対応する樹脂マスク開口部25を有する樹脂マスク20の一方の面上に、金属マスク開口部15を有する金属マスク10が積層されてなる蒸着マスクの製造方法において、複数の樹脂マスク開口部25を形成するにあたり、複数の樹脂マスク開口部25のうちの何れか1つの樹脂マスク開口部25aは、樹脂マスクの厚み方向断面において、当該1つの樹脂マスク開口部を形作る一方の内壁面と樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角(θ1)と、当該1つの樹脂マスク開口部を形作る他方の内壁面と樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角(θ2)とが異なる、ように樹脂マスク開口部25を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)