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1. (WO2018066338) パターン描画装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/066338 国際出願番号: PCT/JP2017/033352
国際公開日: 12.04.2018 国際出願日: 14.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,B41J 2/44 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,G03F 7/24 (2006.01) ,H04N 1/113 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
435
プリンティング材料または印刷転写材料への放射線の選択的適用に特徴があるもの
44
単一の放射線源を用いるもの,例.光ビームまたはシャッター装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
12
多面体鏡を用いるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
24
カーブした表面への露光
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
1
文書または類似のものの走査,伝送または再生,例.ファクシミリ伝送;それらの細部
04
走査装置
113
振動鏡または回転鏡を用いるもの
出願人: NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者: KITO Yoshiaki; JP
KATO Masaki; JP
NAKAYAMA Shuichi; JP
SUZUKI Tomonari; JP
代理人: CHIBA Yoshihiro; JP
MIYADERA Toshiyuki; JP
SENBA Takayuki; JP
OUCHI Hideharu; JP
NAKASONE Yasuharu; JP
SAKAI Shiro; JP
SEKIGUCHI Kosuke; JP
YAMANO Akira; JP
優先権情報:
2016-19735505.10.2016JP
2016-19736205.10.2016JP
発明の名称: (EN) PATTERN DRAWING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE DESSIN DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
要約:
(EN) A pattern drawing apparatus (EX) is provided with: a beam switching unit that has a plurality of selective optical members (OSn) for directing beams toward drawing units (Un) under electrical control and the optical members being arranged so as to sequentially pass the beams from a light source device (LS) in order to selectively supply the beams from the light source device (LS) to one of the drawing units; and a control unit (250) that, when the intensity of a beam projected to a substrate (P) from a specific drawing unit (Un) among the drawing units (Un) is to be adjusted, adjusts the intensity of the beam projected to the substrate (P) from one of beam intensity adjustment units corresponding to the specific drawing unit (Un), within an adjustable range, and controls the beam intensity adjustment units corresponding to the other drawing units (Un) so as to match the intensities of the beams projected to the substrate (P) from the other drawing units (Un) than the specific drawing unit (Un) with the intensity of the beam projected to the substrate (P) from the specific drawing unit (Un).
(FR) Selon la présente invention, un appareil de dessin de motif (EX) comprend : une unité de commutation de faisceau qui a une pluralité d'éléments optiques sélectifs (OSn) permettant de diriger des faisceaux vers des unités de dessin (Un) sous commande électrique et les éléments optiques étant agencés de façon à faire passer séquentiellement les faisceaux à partir d'un dispositif de source de lumière (LS) pour fournir sélectivement les faisceaux du dispositif de source de lumière (LS) à l'une des unités de dessin; et une unité de commande (250) qui, lorsque l'intensité d'un faisceau projeté sur un substrat (P) à partir d'une unité de dessin spécifique (Un) parmi les unités de dessin (Un) doit être réglée, règle l'intensité du faisceau projeté sur le substrat (P) de l'une des unités de réglage d'intensité de faisceau correspondant à l'unité de dessin spécifique (Un), à l'intérieur d'une plage réglable, et commande les unités de réglage d'intensité de faisceau correspondant aux autres unités de dessin (Un) de manière à apparier les intensités des faisceaux projetés sur le substrat (P) des unités de dessin (Un) autres que l'unité de dessin spécifique (Un) à l'intensité du faisceau projeté sur le substrat (P) à partir de l'unité de dessin spécifique (Un).
(JA) パターン描画装置(EX)は、光源装置(LS)からのビームを複数の描画ユニット(Un)のいずれか1つに選択的に供給するために、光源装置(LS)からのビームを順番に通すように配置され、電気的な制御によってビームを描画ユニット(Un)に向ける複数の選択用光学部材(OSn)を有するビーム切換部と、複数の描画ユニット(Un)のうちの特定の描画ユニット(Un)から基板(P)に投射されるビームの強度を調整する際、特定の描画ユニット(Un)に対応したビーム強度調整部の調整可能な範囲内で基板(P)に投射されるビームの強度を調整し、特定の描画ユニット(Un)以外の他の描画ユニット(Un)の各々から基板(P)に投射されるビームの強度を、特定の描画ユニット(Un)から基板(P)に投射されるビームの強度と揃えるように、他の描画ユニット(Un)の各々対応したビーム強度調整部を制御する制御部(250)と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)