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1. (WO2018066285) ビーム走査装置、パターン描画装置、およびパターン描画装置の精度検査方法
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国際公開番号: WO/2018/066285 国際出願番号: PCT/JP2017/031735
国際公開日: 12.04.2018 国際出願日: 04.09.2017
IPC:
G02B 26/12 (2006.01) ,B23K 26/00 (2014.01) ,B23K 26/082 (2014.01) ,G02B 26/10 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
12
多面体鏡を用いるもの
B 処理操作;運輸
23
工作機械;他に分類されない金属加工
K
ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26
レーザービームによる加工,例.溶接,切断,穴あけ
[IPC code unknown for B23K 26/082]
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
加藤正紀 KATO Masaki; JP
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
林田洋祐 HAYASHIDA Yosuke; JP
代理人:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
大内秀治 OUCHI Hideharu; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
山野明 YAMANO Akira; JP
優先権情報:
2016-19644004.10.2016JP
発明の名称: (EN) BEAM SCANNING DEVICE, PATTERN DRAWING DEVICE, AND METHOD FOR EXAMINING ACCURACY OF PATTERN DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE BALAYAGE DE FAISCEAU, DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF ET PROCÉDÉ D’EXAMEN DE PRÉCISION DE DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
(JA) ビーム走査装置、パターン描画装置、およびパターン描画装置の精度検査方法
要約:
(EN) An exposure device (EX) projects, on each of a plurality of reflective surfaces (RP) of a polygon mirror (PM) that rotates around a rotational axis (AXp), a processing beam (LBn), and scans, on a substrate (P) via an fθ lens system (FT), the processing beam (LBn) reflected by each of the plurality of reflective surfaces (RP). The exposure device (EX) is provided with: a starting point sensor which generates a starting point signal (SZn) each time any of the plurality of reflective surfaces (RP) of the polygon mirror (PM) reaches a prescribed angle; and a correction unit which generates corrected starting point signals (SZn') which have been corrected using correction values corresponding to the variation amounts in the time intervals between the generated starting point signals (SZn) corresponding to each of the plurality of reflective surfaces (RP).
(FR) Selon la présente invention, un dispositif d’exposition (EX) projette, sur chacune d’une pluralité de surfaces réfléchissantes (RP) d’un miroir polygonal (PM) qui tourne autour d’un axe de rotation (AXp), un faisceau de traitement (LBn), et balaye, sur un substrat (P) par l’intermédiaire d’un système de lentilles fθ (FT), le faisceau de traitement (LBn) réfléchi par chacune de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP). Le dispositif d’exposition (EX) est pourvu de : un capteur de point de départ qui génère un signal de point de départ (SZn) chaque fois que l’une quelconque de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP) du miroir polygonal (PM) atteint un angle prescrit ; et une unité de correction qui génère des signaux de point de départ corrigés (SZn’) qui ont été corrigés au moyen de valeurs de correction correspondant aux quantités de variation dans les intervalles de temps entre les signaux de point de départ générés (SZn) correspondant à chacune de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP).
(JA) 露光装置(EX)は、回転軸(AXp)の回りに回転するポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々に加工用のビーム(LBn)を投射し、複数の反射面(RP)の各々で反射された加工用のビーム(LBn)を、fθレンズ系(FT)を介して基板(P)上で走査するものである。この露光装置(EX)は、ポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々が所定の規定角度になるたびに原点信号(SZn)を発生する原点センサと、複数の反射面(RP)の各々に対応して発生する原点信号(SZn)の時間的な間隔のばらつき量に応じた補正値によって補正した補正原点信号(SZn')を生成する補正部と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)