このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018062483) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/062483 国際出願番号: PCT/JP2017/035470
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/22 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
22
同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68
位置決め,方向決め,または整列のためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
青木 保夫 AOKI, Yasuo; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
2016-19441330.09.2016JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE, FLAT-PANEL DISPLAY MANUFACTURING METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
要約:
(EN) This liquid crystal exposure device moves a substrate (P), which is supported without contact by a contactless holder (32), relative to a projection optical system and performs scanning exposure of the substrate (P), and is provided with: a holding pad (10044) which holds part of the substrate (P) positioned in a first position above the contactless holder (32); a suction pad which holds another part of the substrate (P); a first drive unit which, in a state in which the substrate (P) is positioned in the first position and is held by the suction pad, moves the holding pad (10044) from below the substrate (P) relatively in a direction intersecting the vertical direction; and a second drive unit which moves the suction pad holding the substrate (P) to a second position in which the substrate (P) is supported without contact by the contactless holder (32). During scanning exposure, the second drive unit moves the suction pad, which holds the substrate (P), which is supported without contact by the contactless holder (32), relative to the projection optical system.
(FR) Ce dispositif d'exposition à cristaux liquides déplace un substrat (P) qui est soutenu sans contact par un support sans contact (32) par rapport à un système optique de projection et effectue une exposition par balayage du substrat (P), et comprend : une plaque de retenue (10044) qui maintient une partie du substrat (P) positionnée dans une première position au-dessus du support sans contact (32); une plaque d'aspiration qui maintient une autre partie du substrat (P); une première unité d'entraînement qui, à l'état dans lequel le substrat (P) est positionné dans la première position et est maintenu par la plaque d'aspiration, déplace la plaque de retenue (10044) depuis le dessous du substrat (P) relativement dans une direction croisant la direction verticale; et une seconde unité d'entraînement qui déplace la plaque d'aspiration maintenant le substrat (P) vers une seconde position dans laquelle le substrat (P) est soutenu sans contact par le support sans contact (32). Pendant l'exposition par balayage, la seconde unité d'entraînement déplace la plaque d'aspiration, qui maintient le substrat (P), qui est soutenu sans contact par le support sans contact (32), par rapport au système optique de projection.
(JA) 非接触ホルダ(32)により非接触支持された基板(P)を投影光学系に対して相対移動させ、基板(P)に対して走査露光を行う液晶露光装置は、非接触ホルダ(32)の上方の第1位置に位置する基板(P)の一部を保持する保持パッド(10044)と、基板(P)の他部を保持する吸着パッドと、基板(P)が第1位置に位置し吸着パッドにより保持された状態で、基板(P)の下方から保持パッド(10044)を上下方向に交差する方向へ相対移動させる第1駆動部と、基板(P)を保持した吸着パッドを、基板(P)が非接触ホルダ(32)に非接触支持される第2位置へ移動させる第2駆動部と、を備え、第2駆動部は、走査露光において、非接触ホルダ(32)に非接触支持された基板(P)を保持する吸着パッドを、投影光学系に対して相対移動させる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)