このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018062481) 反射防止材およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/062481 国際出願番号: PCT/JP2017/035465
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G02B 1/11 (2015.01) ,G02B 5/00 (2006.01) ,G02B 5/02 (2006.01) ,G02B 5/22 (2006.01) ,G03B 9/02 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
1
使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10
光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11
反射防止膜
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
02
拡散性要素;アフォーカル要素
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
22
吸収フィルター
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
B
写真を撮影するためのまたは写真を投影もしくは直視するための装置または配置;光波以外の波を用いる類似技術を用いる装置または配置;そのための付属品
9
露出を行なうシャッター;絞り
02
絞り
出願人:
SCIVAX株式会社 SCIVAX CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区新川崎7番7号 7-7 Shinkawasaki, Saiwai-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2120032, JP
発明者:
谷口豊 TANIGUCHI Yutaka; JP
縄田晃史 NAWATA Akifumi; JP
北原淑行 KITAHARA Toshiyuki; JP
田中覚 TANAKA Satoru; JP
代理人:
奥田律次 OKUDA Noritsugu; JP
優先権情報:
2016-19416730.09.2016JP
発明の名称: (EN) ANTIREFLECTIVE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) MATÉRIAU ANTIREFLET ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 反射防止材およびその製造方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide an absorption type antireflective material that can sufficiently suppress reflection of light. An antireflective material 1 mainly comprises an reflection suppression layer 2 wherein a textured structure 3 for suppressing reflection of incident light is formed on a first surface 21, and a light absorbing layer 4 formed on a second surface 22 of the reflection suppression layer 2 for absorbing light passing through the reflection suppression layer 2. The reflection suppression layer 2 is preferably formed from a material having a self-repairing function. In addition, the textured structure is preferably given a form, such as random size and disposition, such that diffracted light does not arise.
(FR) La présente invention vise à fournir un matériau antireflet de type absorption qui peut supprimer suffisamment la réflexion de la lumière. Un matériau antireflet 1 comprend principalement une couche de suppression de réflexion 2 dans laquelle une structure texturée 3 pour supprimer la réflexion de la lumière incidente est formée sur une première surface 21, et une couche d'absorption de lumière 4 formée sur une seconde surface 22 de la couche de suppression de réflexion 2 pour absorber la lumière traversant la couche de suppression de réflexion 2. La couche de suppression de réflexion 2 est de préférence faite d'un matériau ayant une fonction d'auto-réparation. De plus, la structure texturée possède de préférence une forme, telle qu'une taille et une disposition aléatoires, de telle sorte qu'aucune lumière diffractée ne se produise.
(JA) 光の反射を十分に抑えることができる吸収型の反射防止材を提供することを目的とする。反射防止材1は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造3が第1の面21に形成された反射抑制層2と、反射抑制層2の第2の面22に形成され、反射抑制層2を透過した光を吸収する光吸収層4と、で主に構成される。反射抑制層2は、自己修復機能を有する材料からなる方が良い。また、凹凸構造は、大きさや配置をランダムにする等、回折光が生じない形態にする方が良い。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)