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1. (WO2018062481) 反射防止材およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/062481    国際出願番号:    PCT/JP2017/035465
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G02B 1/11 (2015.01), G02B 5/00 (2006.01), G02B 5/02 (2006.01), G02B 5/22 (2006.01), G03B 9/02 (2006.01)
出願人: SCIVAX CORPORATION [JP/JP]; 7-7 Shinkawasaki, Saiwai-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2120032 (JP)
発明者: TANIGUCHI Yutaka; (JP).
NAWATA Akifumi; (JP).
KITAHARA Toshiyuki; (JP).
TANAKA Satoru; (JP)
代理人: OKUDA Noritsugu; (JP)
優先権情報:
2016-194167 30.09.2016 JP
発明の名称: (EN) ANTIREFLECTIVE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) MATÉRIAU ANTIREFLET ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 反射防止材およびその製造方法
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide an absorption type antireflective material that can sufficiently suppress reflection of light. An antireflective material 1 mainly comprises an reflection suppression layer 2 wherein a textured structure 3 for suppressing reflection of incident light is formed on a first surface 21, and a light absorbing layer 4 formed on a second surface 22 of the reflection suppression layer 2 for absorbing light passing through the reflection suppression layer 2. The reflection suppression layer 2 is preferably formed from a material having a self-repairing function. In addition, the textured structure is preferably given a form, such as random size and disposition, such that diffracted light does not arise.
(FR)La présente invention vise à fournir un matériau antireflet de type absorption qui peut supprimer suffisamment la réflexion de la lumière. Un matériau antireflet 1 comprend principalement une couche de suppression de réflexion 2 dans laquelle une structure texturée 3 pour supprimer la réflexion de la lumière incidente est formée sur une première surface 21, et une couche d'absorption de lumière 4 formée sur une seconde surface 22 de la couche de suppression de réflexion 2 pour absorber la lumière traversant la couche de suppression de réflexion 2. La couche de suppression de réflexion 2 est de préférence faite d'un matériau ayant une fonction d'auto-réparation. De plus, la structure texturée possède de préférence une forme, telle qu'une taille et une disposition aléatoires, de telle sorte qu'aucune lumière diffractée ne se produise.
(JA)光の反射を十分に抑えることができる吸収型の反射防止材を提供することを目的とする。反射防止材1は、入射した光の反射を抑制する凹凸構造3が第1の面21に形成された反射抑制層2と、反射抑制層2の第2の面22に形成され、反射抑制層2を透過した光を吸収する光吸収層4と、で主に構成される。反射抑制層2は、自己修復機能を有する材料からなる方が良い。また、凹凸構造は、大きさや配置をランダムにする等、回折光が生じない形態にする方が良い。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)