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1. (WO2018062189) NiTa系合金、ターゲット材及び磁気記録媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

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国際公開番号:    WO/2018/062189    国際出願番号:    PCT/JP2017/034762
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 26.09.2017
IPC:
C22C 19/03 (2006.01), C22C 27/02 (2006.01), C22C 30/00 (2006.01), C22C 30/02 (2006.01), C22C 30/04 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), G11B 5/738 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
出願人: SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 3007, Aza-Ichimonji, Nakashima, Shikama-ku, Himeji-shi, Hyogo 6728677 (JP)
発明者: IMOTO Miyuki; (JP)
代理人: NAGAI Hiroshi; (JP).
NAKAMURA Yukitaka; (JP).
SATO Yasukazu; (JP).
ASAKURA Satoru; (JP).
SUZUKI Hiroyasu; (JP)
優先権情報:
2016-187722 27.09.2016 JP
発明の名称: (EN) Ni-Ta SYSTEM ALLOY, TARGET MATERIAL AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) ALLIAGE DE SYSTÈME Ni-Ta, MATÉRIAU CIBLE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) NiTa系合金、ターゲット材及び磁気記録媒体
要約: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing: an Ni-Ta system alloy which is free from composition unevenness and has improved mechanical strength, and wherein Ta compound phases are finely dispersed by adding a predetermined amount of Fe and/or Co into the Ni-Ta system alloy; a sputtering target material which contains this Ni-Ta system alloy; and a magnetic recording medium. In order to solve the problem, the present invention provides an Ni-Ta system alloy which contains 15-50 at% of Ta and 0-10 at% in total of one or more elements selected from among Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, Zr, Ti, Hf, B, Cu, P, C, Ru and Cr, with the balance made up of Ni, unavoidable impurities and Fe and/or Co. This Ni-Ta system alloy is configured such that: the proportions of the Ni content, the Fe content and the Co content relative to the total content of Ni, Fe and Co are 20-98.5%, 0-50% and 0-60%, respectively; the Ni-Ta system alloy has an FCC phase and a Ta compound phase; and the diameter of the maximum inscribed circle that is able to be drawn inside the Ta compound phase is 10 μm or less.
(FR)La présente invention aborde le problème consistant à fournir : un alliage de système Ni-Ta qui est exempt d'irrégularités de composition et présente une résistance mécanique améliorée, et dont les phases de composé Ta sont finement dispersées par l'ajout d'une quantité prédéfinie de Fe et/ou de Co dans l'alliage de système Ni-Ta; un matériau cible de pulvérisation qui contient cet alliage de système Ni-Ta; et un support d'enregistrement magnétique. Afin de résoudre le problème, la présente invention concerne un alliage de système Ni-Ta qui contient de 15 à 50 % at. de Ta et de 0 à 10 % at. au total d'un ou de plusieurs éléments choisis parmi Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, Zr, Ti, Hf, B, Cu, P, C, Ru et Cr, le reste étant constitué de Ni, d'impuretés inévitables et de Fe et/ou de Co. Ledit alliage de système Ni-Ta est conçu de sorte : que les proportions de la teneur en Ni, de la teneur en Fe et de la teneur en Co par rapport à la teneur totale en Ni, Fe et Co soient respectivement de 20 à 98,5 %, de 0 à 50 % et de 0 à 60 %; que l'alliage de système Ni-Ta ait une phase FCC et une phase de composé Ta; et que le diamètre du cercle inscrit maximal qui peut être dessiné à l'intérieur de la phase de composé Ta soit inférieur ou égal à 10 µm.
(JA)本発明は、NiTa系合金に所定量のFe及び/又はCoを添加することにより、Ta化合物相を微細に分散させ、組成ムラがなく、かつ機械強度が向上したNiTa系合金及び該NiTa系合金を含んでなるスパッタリングターゲット材及び磁気記録媒体を提供することを課題とし、かかる課題を解決するために、Taを15~50at%、Al,Ga,In,Si,Ge,Sn,Zr,Ti,Hf,B,Cu,P,C,Ru,Crから選択される1種又は2種以上の元素を合計で0~10at%含有し、残部が、Niと、Fe及びCoの1種又は2種と、不可避的不純物とからなり、Ni、Fe及びCoの合計量に対するNi量、Fe量、Co量の比率がそれぞれ20~98.5%、0~50%、0~60%であるNiTa系合金であって、該NiTa系合金がFCC相及びTa化合物相を有し、該Ta化合物相の中に描ける最大内接円の径が10μm以下である、Ni-Ta系合金を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)