WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2018062174) R-T-B系焼結磁石の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/062174    国際出願番号:    PCT/JP2017/034730
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 26.09.2017
IPC:
H01F 41/02 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), B22F 3/00 (2006.01), B22F 3/24 (2006.01), C21D 6/00 (2006.01), C22C 28/00 (2006.01), C22C 30/00 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01), H01F 1/057 (2006.01)
出願人: HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224 (JP)
発明者: KUNIYOSHI Futoshi; (--).
MINO Shuji; (--)
代理人: OKUDA Seiji; (JP)
優先権情報:
2016-190669 29.09.2016 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF PRODUCING R-T-B SINTERED MAGNET
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'AIMANT FRITTÉ R-T-B
(JA) R-T-B系焼結磁石の製造方法
要約: front page image
(EN)This invention includes: an application step for applying an adhesive to an application region of the surface of an R-T-B sintered magnet material; an adhesion step for causing a granularity adjustment powder formed from a powder of a compound or an alloy of a Pr-Ga alloy, which is Dy and/or Tb, to adhere to the application region of the surface of the R-T-B sintered magnet material; and a diffusion step for performing a heat treatment at a temperature equal to or less than the sintering temperature of the R-T-B sintered magnet material and causing the Pr-Ga alloy contained in the granularity adjustment powder to be diffused from the surface of the R-T-B sintered magnet material to the interior. The granularity of the granularity adjustment powder is set so that the amount of Ga contained in the granularity adjustment powder is in a range of 0.10-1.0% by mass in relation to the R-T-B sintered magnet material when the powder particles constituting the granularity adjustment powder are disposed across the entire surface of the R-T-B sintered magnet material to form one to three particle layers.
(FR)La présente invention comprend : une étape d'application consistant à appliquer un adhésif sur une région d'application de la surface d'un aimant fritté R-T-B; une étape d'adhérence pour amener une poudre de réglage de granularité formée à partir d'une poudre d'un composé ou d'un alliage de l'alliage Pr-Ga, qui est Dy et/ou Tb, pour adhérer à la région d'application de la surface du materiau d'aimant fritté R-T-B; et une étape de diffusion pour effectuer un traitement thermique à une température égale ou inférieure à la température de frittage du materiau d'aimant fritté R-T-B et amener l'alliage Pr-Ga contenu dans la poudre de réglage de granularité à être diffusé depuis la surface du matériau d'aimant fritté R-T-B vers l'intérieur. La granularité de la poudre de réglage de granularité est réglée de telle sorte que la quantité de Ga contenue dans la poudre de réglage de granularité est dans une plage de 0,10 à 1,0 % en masse par rapport au materiau d'aimant fritté R-T-B lorsque les particules de poudre constituant la poudre de réglage de granularité sont disposées sur toute la surface du matériau d'aimant fritté R-T-B pour former une à trois couches de particules.
(JA)R-T-B系焼結磁石素材の表面の塗布領域に粘着剤を塗布する塗布工程と、Dy及びTbの少なくとも一方であるPr-Ga合金の合金又は化合物の粉末から形成した粒度調整粉末をR-T-B系焼結磁石素材の表面の塗布領域に付着させる付着工程と、R-T-B系焼結磁石素材の焼結温度以下の温度で熱処理して、粒度調整粉末に含まれるPr-Ga合金をR-T-B系焼結磁石素材の表面から内部に拡散する拡散工程とを含む。粒度調整粉末の粒度は、粒度調整粉末を構成する粉末粒子がR-T-B系焼結磁石素材の表面の全体に配置されて1層以上3層以下の粒子層を形成したときに、粒度調整粉末に含まれるGaの量が前記R-T-B系焼結磁石素材に対して質量比で0.10~1.0%の範囲内になるように設定される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)