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1. (WO2018062025) ガラス用研磨液および研磨方法
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国際公開番号: WO/2018/062025 国際出願番号: PCT/JP2017/034252
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 22.09.2017
IPC:
C03C 15/00 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
出願人:
パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
発明者:
西川 晴香 NISHIKAWA Haruka; --
家田 智之 IEDA Toshiyuki; --
永井 忠 NAGAI Atsushi; --
島田 和哉 SHIMADA Kazuya; --
代理人:
廣幸 正樹 HIROKOH Masaki; JP
優先権情報:
2016-19495930.09.2016JP
発明の名称: (EN) POLISHING LIQUID FOR GLASS, AND POLISHING METHOD
(FR) LIQUIDE DE POLISSAGE POUR VERRE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) ガラス用研磨液および研磨方法
要約:
(EN) This polishing liquid is characterized by containing hydrofluoric acid, an alkali metal, water, and a surfactant, wherein the surfactant is of a sulfonic acid type or a sulfuric acid ester type. The polishing liquid enables inhibition of excessive crystal growth of deposits generated in minute flaws during preliminary polishing, thereby enabling inhibition of surface roughness from occurring after polishing.
(FR) L'invention concerne un liquide de polissage caractérisé en ce qu'il contient de l'acide fluorhydrique, un métal alcalin, de l'eau et un tensioactif, le tensioactif étant de type acide sulfonique ou de type ester d'acide sulfurique. Le liquide de polissage permet l'inhibition de la croissance cristalline excessive de dépôts générés dans des défauts minuscules pendant le polissage préliminaire, ce qui permet d'empêcher l'apparition d'une rugosité de surface après le polissage.
(JA) フッ酸とアルカリ金属と水と界面活性剤を含み、前記界面活性剤は、スルホン酸型若しくは硫酸エステル型であることを特徴とする研磨液により、前研磨で微細なキズに生成する析出物の過度な結晶成長を抑制し、研磨後の表面荒れを抑制することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)