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1. (WO2018061988) 感光性組成物、ならびに着色パターンおよびその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/061988 国際出願番号: PCT/JP2017/034150
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 21.09.2017
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08G 59/20 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
59
1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物;エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物;エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物
18
エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含む化合物を重合することにより得られる高分子化合物
20
用いられたエポキシ化合物に特徴のあるもの
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 3-18, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
稲成 浩史 INARI, Hirofumi; JP
天野 進 AMANO, Susumu; JP
北嶋 亜紀 KITAJIMA, AKI; JP
一柳 典克 ICHIRYU, Yoshikatsu; JP
井手 正仁 IDE, Masahito; JP
眞鍋 貴雄 MANABE, Takao; JP
代理人:
新宅 将人 SHINTAKU, Masato; JP
吉本 力 YOSHIMOTO, Tsutomu; JP
優先権情報:
2016-19155729.09.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLORED PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, ET MOTIF DE COULEUR AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 感光性組成物、ならびに着色パターンおよびその製造方法
要約:
(EN) This photosensitive composition contains a polysiloxane compound, a photoacid generator, a coloring agent and a solvent. The content of the coloring agent relative to the total solid content of this composition is 5% by weight or more. The polysiloxane compound contains a cyclic polysiloxane structure and a cationically polymerizable functional group. The polysiloxane compound may additionally have an alkali-soluble functional group. It is preferable that the content of the polysiloxane compound relative to the total solid content of this composition is from 20% by weight to 80% by weight. This photosensitive composition is used, for example, for the formation of a colored pattern.
(FR) La composition photosensible de l’invention comprend un composé polysiloxane, un générateur de photoacide, un colorant et un solvant. La teneur en colorant est supérieure ou égale à 5% en masse pour la quantité totale de matière sèche de la composition. Le composé polysiloxane contient une structure de polysiloxane cyclique et un groupe fonctionnel polymérisable par voie cationique. Le composé polysiloxane peut également posséder un groupe fonctionnel soluble dans l’alcali. De préférence, la teneur en composé polysiloxane est comprise entre 20 et 80% en masse pour la quantité totale de matière sèche de la composition. La composition photosensible peut être mise en œuvre par exemple dans la formation d’un motif de couleur.
(JA) 感光性組成物は、ポリシロキサン化合物、光酸発生剤、着色剤、および溶剤を含有する。組成物の固形分全量に対する着色剤の含有量は5重量%以上である。ポリシロキサン化合物は、環状ポリシロキサン構造およびカチオン重合性官能基を含む。ポリシロキサン化合物は、さらにアルカリ可溶性官能基を有していてもよい。組成物の固形分全量に対するポリシロキサン化合物の含有量は、20~80重量%が好ましい。感光性組成物は、例えば着色パターンの形成に用いられる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)