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1. (WO2018061960) マルチビーム電子線描画装置における露光強度分布を求める方法および装置

Pub. No.:    WO/2018/061960    International Application No.:    PCT/JP2017/034033
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Sep 22 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
H01J 37/305
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
大日本印刷株式会社
Inventors: SHIMOMURA Takeya
下村 剛哉
OHKAWA Youhei
大川 洋平
Title: マルチビーム電子線描画装置における露光強度分布を求める方法および装置
Abstract:
被成形層についての露光強度分布を高精度で、かつ、短時間に求める。電子ビームの各照射位置の強度を画素値とする画素P(i,j)をピッチdで配列した描画データをマルチビーム電子線描画装置に与えたときの露光強度分布を演算で求める。各画素P(i,j)を縦横5分割し、幅gをもつセルC(m,n)を定義し、多数のセルC(m,n)の集合体により、電子線照射強度分布を示す照射強度マトリックスを作成する。各画素の中心の代表セルには、当該画素の画素値を与え、それ以外のセルには値0を与える。中心位置から周囲への影響の度合いの分布を示す点拡がり関数psfに対応する点拡がりマトリックスを作成し、両マトリックスを用いた畳み込み積分により露光強度分布を求める。点拡がり関数psfとして、電子線描画装置のアパーチャーの開口サイズに応じた幅をもつ平坦部Hを有する関数を用いる。