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1. (WO2018061945) 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2018/061945    International Application No.:    PCT/JP2017/033954
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Sep 21 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 9/00
G01B 21/00
G03F 7/20
H01L 21/68
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: ICHINOSE, Go
一ノ瀬 剛
DOSHO, Tomonori
道正 智則
Title: 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法
Abstract:
マイクロデバイスの製造ラインで用いられる計測システム(5001)は、露光装置とは独立して設けられている。計測システム(5001)は、それぞれ基板(例えば少なくとも1つのプロセス処理を経た後、感応剤が塗布される前の基板)に対する計測処理を行なう複数の計測装置(1001~1003)と、複数の計測装置と基板の受け渡しを行うための搬送システムと、を備えている。複数の計測装置は、基板に形成された複数のマークの位置情報を第1条件の設定の下で取得する第1計測装置(1001)と、別の基板(例えば、第1計測装置において第1条件の設定の下で位置情報の取得が行われる基板と同一のロットに含まれる別の基板)に形成された複数のマークの位置情報を第1条件の設定の下で取得する第2計測装置(1002)と、を含む。