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1. (WO2018061869) シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
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国際公開番号: WO/2018/061869 国際出願番号: PCT/JP2017/033724
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 19.09.2017
IPC:
C07F 19/00 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
19
メイングループ1/00から17/00のうち2以上のメイングループにわたる金属化合物
出願人:
日本化学工業株式会社 NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都江東区亀戸9丁目11番1号 9-11-1, Kameido, Koto-ku, Tokyo 1368515, JP
発明者:
田久保 洋介 TAKUBO, Yosuke; JP
田村 健 TAMURA, Ken; JP
代理人:
特許業務法人翔和国際特許事務所 SHOWA INTERNATIONAL PATENT FIRM; 東京都港区赤坂二丁目5番7号NIKKEN赤坂ビル7階 NIKKEN AKASAKA BLDG., 7F., 5-7, Akasaka 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052, JP
優先権情報:
2016-19185829.09.2016JP
発明の名称: (EN) SILYL PHOSPHINE COMPOUND MANUFACTURING METHOD AND SILYL PHOSPHINE COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ DE PHOSPHINE SILYLE ET COMPOSÉ DE SILYLE-PHOSPHINE
(JA) シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
要約:
(EN) This silyl phosphine compound manufacturing method includes: a first step for obtaining a solution containing a silyl phosphine compound by mixing a solvent having a relative dielectric constant of 4 or less, a basic compound, a silylating agent, and a phosphine; a second step for obtaining a concentrated solution of the silyl phosphine compound by removing the solvent from the solution containing the silyl phosphine compound; and a third step for obtaining the silyl phosphine compound by distilling the concentrated solution of the silyl phosphine compound. In addition, the silyl phosphine compound according to the present invention is a silyl phosphine compound represented by general formula (1), wherein the content of a compound represented by general formula (2) is equal to or less than 0.5 mol%. (See the description for formula notes.)
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un composé de phosphine silyle comprenant : une première étape consistant à obtenir une solution contenant un composé de silyle-phosphine en mélangeant un solvant ayant une constante diélectrique relative inférieure ou égale à 4, un composé basique, un agent de silylation et une phosphine ; une seconde étape consistant à obtenir une solution concentrée du composé de silyle-phosphine par élimination du solvant de la solution contenant le composé de silyle-phosphine ; et une troisième étape consistant à obtenir le composé de silyle-phosphine par distillation de la solution concentrée du composé de silyle-phosphine. De plus, le composé de silyle-phosphine selon la présente invention est un composé de silyle-phosphine représenté par la formule générale (1), la quantité contenue d'un composé représenté par la formule générale (2) étant égale ou inférieure à 0,5 mole. (Voir la description pour les commentaires sur les formules.)
(JA) 本発明のシリルホスフィン化合物の製造方法は、比誘電率が4以下である溶媒と、塩基性化合物と、シリル化剤と、ホスフィンとを混合してシリルホスフィン化合物を含む溶液を得る第一工程、シリルホスフィン化合物を含む溶液から溶媒を除去してシリルホスフィン化合物の濃縮液を得る第二工程、及び、シリルホスフィン化合物の濃縮液を蒸留することによりシリルホスフィン化合物を得る第三工程、を有する。また本発明のシリルホスフィン化合物は下記一般式(1)で表されるシリルホスフィン化合物であって、下記一般式(2)で表される化合物の含有量が0.5モル%以下である。  (式の注釈は明細書を参照)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)