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1. (WO2018061781) ドライエッチング用組成物、キット、パターン形成方法および光学フィルタの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/061781    国際出願番号:    PCT/JP2017/033111
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 13.09.2017
IPC:
G02B 5/22 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: ARIMURA Keisuke; (JP)
代理人: NAKASHIMA Junko; (JP).
YONEKURA Junzo; (JP).
MURAKAMI Yasunori; (JP)
優先権情報:
2016-188265 27.09.2016 JP
発明の名称: (EN) DRY ETCHING COMPOSITION, KIT, PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILTER
(FR) COMPOSITION POUR GRAVURE SÈCHE, KIT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE OPTIQUE
(JA) ドライエッチング用組成物、キット、パターン形成方法および光学フィルタの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are a dry etching composition having high opacity to visible light and whereby a cured film pattern having excellent transmission of infrared rays in a specific wavelength region can be formed with good resolution, a kit, a pattern formation method, and a method for manufacturing an optical filter. The dry etching composition includes a coloring material for transmitting infrared rays and blocking visible light, a curable compound, and a solvent, the ratio A/B of the minimum value A of the light absorbance of the composition in a wavelength range of 400-700 nm and the maximum value B of the light absorbance in a wavelength range of 1100-1300 nm being 4.5 or greater.
(FR)L’invention fournit une composition pour gravure sèche présentant une opacité élevée à la lumière visible, et permettant de former selon une résolution satisfaisante un motif de film durci d’une excellente perméabilité aux rayons infrarouges d’une région de longueur d’ondes spécifique. L’invention fournit également un kit, un procédé de formation de motif et un procédé de fabrication de filtre optique. La composition pour gravure sèche contient un matériau colorant laissant passer les rayons infrarouges et bloquant la lumière visible, un composé durcissable, et un solvant. A/B, le rapport entre la valeur minimale (A) d’absorbance de la composition dans une plage de longueur d’ondes de 400 à 700nm, et la valeur maximale (B) de son absorbance dans une plage de longueur d’ondes de 1100 à 1300nm, est supérieur ou égal à 4,5.
(JA)可視光の遮光性が高く、かつ、特定の波長領域の赤外線の透過性に優れた硬化膜のパターンを解像性良く形成できるドライエッチング用組成物、キット、パターン形成方法および光学フィルタの製造方法を提供する。ドライエッチング用組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材と、硬化性化合物と、溶剤とを含み、組成物の波長400~700nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)