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1. (WO2018061707) タッチパネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供
国際公開番号: WO/2018/061707 国際出願番号: PCT/JP2017/032370
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 07.09.2017
IPC:
G06F 3/041 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/48 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,G06F 3/044 (2006.01)
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48
紫外線または可視光線によるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
044
容量性手段によるもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布２丁目２６番３０号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
霜山　達也 SHIMOYAMA, Tatsuya; JP
中村　秀之 NAKAMURA, Hideyuki; JP
豊岡　健太郎 TOYOOKA, Kentaro; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿４丁目３番１７号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2016-19227729.09.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING TOUCH PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU TACTILE
(JA) タッチパネルの製造方法
要約:
(EN) A method for manufacturing a touch panel including the steps of: preparing a substrate for touch panels having a structure in which an electrode and wiring are arranged on the substrate; providing a photosensitive layer that contains a specific azole compound, etc., on the surface of the substrate for touch panels on the side where the wiring is arranged; exposing a pattern on the photosensitive layer; developing the pattern-exposed photosensitive layer and thereby forming a protective layer having an opening for causing a portion of the wiring to be exposed; providing a pigmented layer that spreads over the protective layer and the wiring exposed in the opening; and exposing a pattern on the pigmented layer to develop the pigmented layer and thereby forming a pigmented pattern on the protective layer and causing the wiring to be exposed in the opening.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un panneau tactile comprenant les étapes consistant à : préparer un substrat pour des panneaux tactiles ayant une structure dans laquelle une électrode et un câblage sont agencés sur le substrat; fournir une couche photosensible qui contient un composé azole spécifique, etc, sur la surface du substrat pour des panneaux tactiles sur le côté où le câblage est agencé; exposer un motif sur la couche photosensible; développer la couche photosensible exposée au motif et former ainsi une couche de protection ayant une ouverture pour amener une partie du câblage à être exposée; fournir une couche pigmentée qui s'étale sur la couche de protection et sur le câblage exposé dans l'ouverture; et exposer un motif sur la couche pigmentée pour développer la couche pigmentée et former ainsi un motif pigmenté sur la couche de protection et amener le câblage à être exposé dans l'ouverture.
(JA) 基板上に電極及び配線が配置された構造を有するタッチパネル用基板を準備する工程、タッチパネル用基板の配線が配置された側の面上に特定アゾール化合物等を含有する感光性層を設ける工程、感光性層をパターン露光する工程、パターン露光された感光性層を現像することにより、配線の一部を露出させる開口部を有する保護層を形成する工程、保護層上と開口部に露出した配線上とにまたがる着色層を設ける工程、並びに着色層をパターン露光し現像することにより、保護層上に着色パターンを形成し、かつ開口部に配線を露出させる工程を含むタッチパネルの製造方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)