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1. (WO2018061656) カチオン変性シリカの製造方法およびカチオン変性シリカ分散体、ならびにカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物の製造方法およびカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物
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国際公開番号:    WO/2018/061656    国際出願番号:    PCT/JP2017/031956
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 05.09.2017
IPC:
C01B 33/146 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09G 1/02 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP)
発明者: TAGUCHI, Souma; (JP).
ASHITAKA, Keiji; (JP).
MIWA, Naoya; (JP)
代理人: HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
優先権情報:
2016-193604 30.09.2016 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING CATIONICALLY MODIFIED SILICA, CATIONICALLY MODIFIED SILICA DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING POLISHING COMPOSITION USING CATIONICALLY MODIFIED SILICA, AND POLISHING COMPOSITION USING CATIONICALLY MODIFIED SILICA
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SILICE CATIONIQUEMENT MODIFIÉE, DISPERSION DE SILICE CATIONIQUEMENT MODIFIÉE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE POLISSAGE UTILISANT DE LA SILICE CATIONIQUEMENT MODIFIÉE, ET COMPOSITION DE POLISSAGE UTILISANT DE LA SILICE CATIONIQUEMENT MODIFIÉE
(JA) カチオン変性シリカの製造方法およびカチオン変性シリカ分散体、ならびにカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物の製造方法およびカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide, in a method for producing a cationically modified silica which includes modifying a silica raw material using a silane coupling agent, a means for enabling suppression of the occurrence of gelation during and after addition of the silane coupling agent. The present invention is a method for producing a cationically modified silica, the method comprising mixing a silica raw material having a negative zeta potential with a silane coupling agent having an amino group or quaternary cation group and causing a reaction between the silica raw material and the silane coupling agent so as to obtain the cationically modified silica. The cationically modified silica satisfies relational expression (1). In relational expression (1), X is a pH value that is the isoelectric point of the cationically modified silica, and Y is the pH value of the cationically modified silica.
(FR)Le but de la présente invention est de fournir, dans un procédé de production d'une silice cationiquement modifiée qui comprend la modification d'une matière première de silice à l'aide d'un agent de couplage de silane, un moyen pour permettre la suppression de l'apparition d'une gélification pendant et après l'ajout de l'agent de couplage de silane. La présente invention concerne un procédé de production d'une silice cationiquement modifiée, le procédé comprenant les étapes consistanr à mélanger une matière première de silice ayant un potentiel zêta négatif avec un agent de couplage de silane ayant un groupe amino ou un groupe cationique quaternaire et provoquer une réaction entre la matière première de silice et l'agent de couplage de silane de manière à obtenir la silice cationiquement modifiée. La silice cationiquement modifiée satisfait l'expression relationnelle (1). Dans l'expression relationnelle (1), X est une valeur de pH qui est le point isoélectrique de la silice cationiquement modifiée, et Y est la valeur de pH de la silice cationiquement modifiée.
(JA)シランカップリング剤を用いてシリカ原料を変性させることを含むカチオン変性シリカの製造において、シランカップリング剤の添加時や添加後におけるゲル化の発生を抑制しうる手段を提供する。本発明は、ゼータ電位が負の値を示すシリカ原料と、アミノ基または4級カチオン基を有するシランカップリング剤とを混合し、前記シリカ原料と前記シランカップリング剤とを反応させて、カチオン変性シリカを得ることを有し、 前記カチオン変性シリカは、以下の関係式(1): 関係式(1)中、Xは、カチオン変性シリカの等電点となるpHの値であり、Yは、カチオン変性シリカのpHの値である を満たす、カチオン変性シリカの製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)