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1. (WO2018061633) ビーム走査装置およびパターン描画装置
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国際公開番号: WO/2018/061633 国際出願番号: PCT/JP2017/031734
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 04.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/08 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,G03F 7/24 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
12
多面体鏡を用いるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
24
カーブした表面への露光
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
加藤正紀 KATO Masaki; JP
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
代理人:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
大内秀治 OUCHI Hideharu; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
山野明 YAMANO Akira; JP
優先権情報:
2016-19102029.09.2016JP
発明の名称: (EN) BEAM SCANNING DEVICE AND PATTERN RENDERING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE BALAYAGE PAR FAISCEAU ET APPAREIL DE RENDU DE MOTIF
(JA) ビーム走査装置およびパターン描画装置
要約:
(EN) A rendering unit (Un) is provided with an fθ lens system (FT) on which a processing beam (LBn) deflected by a reflection plane (RP) of an angle-variable polygon mirror (PM) is incident and which has refractive power by which the processing beam (LBn) is concentrated as spot light (SP) onto a substrate P, and the rendering unit scans the spot light (SP) at a scanning speed corresponding to an angular change of the reflection plane (RP) of the polygon mirror (PM). The rendering unit (Un) is provided with an photoelectric conversion element (DTo) which receives a reflected beam (Bgb) of an origin detection laser beam (Bga) projected toward the reflection plane (RP) of the polygon mirror (PM), and outputs an origin signal (SZn) indicating a point of time at which the reflection plane (RP) of the polygon mirror (PM) is located at a predetermined angle, and a lens system (GLb) which has refractive power set smaller than the refractive power of the fθ lens system (FT), and concentrates the reflected beam (Bgb) as spot light (SPr) onto the photoelectric conversion element (DTo).
(FR) L’invention concerne une unité de rendu (Un) comportant un système de lentille fθ (FT) sur lequel un faisceau de traitement (LBn) dévié par un plan de réflexion (RP) d'un miroir polygonal à angle variable (PM) est incident et qui a une puissance de réfraction par laquelle le faisceau de traitement (LBn) est concentré sous la forme d'une lumière ponctuelle (SP) sur un substrat P, et l'unité de rendu balaye la lumière ponctuelle (SP) à une vitesse de balayage correspondant à un changement angulaire du plan de réflexion (RP) du miroir polygonal (PM). L'unité de rendu (Un) comporte un élément de conversion photoélectrique (DTo) qui reçoit un faisceau réfléchi (Bgb) d'un faisceau laser de détection d'origine (Bga) projeté vers le plan de réflexion (RP) du miroir polygonal (PM), et émet un signal d'origine (SZn) indiquant un instant auquel le plan de réflexion (RP) du miroir polygonal (PM) est situé à un angle prédéterminé, et un système de lentille (GLb) qui a un ensemble de puissance de réfraction inférieur par rapport à la puissance de réfraction du système de lentille fθ (FT), et qui concentre le faisceau réfléchi (Bgb) en tant que lumière ponctuelle (SPr) sur l'élément de conversion photoélectrique (DTo).
(JA) 描画ユニット(Un)は、角度可変のポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)で偏向された加工用のビーム(LBn)を入射して、基板Pに加工用のビーム(LBn)をスポット光(SP)として集光する屈折力を持つfθレンズ系(FT)を備え、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)の角度変化に応じた走査速度でスポット光(SP)を走査する。描画ユニット(Un)は、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)に向けて投射された原点検出用のレーザビーム(Bga)の反射ビーム(Bgb)を受光して、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)が所定角度になる時点を表す原点信号(SZn)を出力する光電変換素子(DTo)と、fθレンズ系(FT)の屈折力よりも小さい屈折力に設定され、反射ビーム(Bgb)を光電変換素子(DTo)にスポット光(SPr)として集光するレンズ系(GLb)と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)