国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018061544) プロキシミティ露光方法

Pub. No.:    WO/2018/061544    International Application No.:    PCT/JP2017/030198
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Aug 24 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
G03F 1/42
Applicants: V TECHNOLOGY CO., LTD.
株式会社ブイ・テクノロジー
Inventors: TOGASHI Takumi
富樫 工
HARADA Tomonori
原田 智紀
Title: プロキシミティ露光方法
Abstract:
プロキシミティ露光方法は、レジスト(R)の解像限界以下である最小ピッチ(P)を有するレジストパターン(43)に対して、レジスト(R)の解像限界より大きいマスクパターン(31)が形成されるマスク(M)を準備し、第1露光工程でマスクパターン(31)をワーク(W)に露光転写した後、マスク(M)とワーク(W)とをレジストパターン(43)のピッチ(P)分だけ相対的にステップ移動させて、第2露光工程でマスクパターン(31)をワーク(W)に再度露光転写する。