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1. (WO2018061480) パターン評価装置及びコンピュータープログラム
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国際公開番号: WO/2018/061480 国際出願番号: PCT/JP2017/028403
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 04.08.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01) ,G06T 1/00 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
G 物理学
06
計算;計数
T
イメージデータ処理または発生一般
1
汎用イメージデータ処理
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
豊田 康隆 TOYODA Yasutaka; JP
新藤 博之 SHINDO Hiroyuki; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
2016-19051129.09.2016JP
発明の名称: (EN) PATTERN EVALUATION DEVICE AND COMPUTER PROGRAM
(FR) DISPOSITIF D’ÉVALUATION DE MOTIF ET PROGRAMME INFORMATIQUE
(JA) パターン評価装置及びコンピュータープログラム
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a pattern evaluation device and a computer program for performing an efficient and accurate defect examination by permitting different manufacturing variations depending on the part of a circuit being examined. In order to achieve the purpose, there are proposed a computer program and an examination system which include a means for statistically processing measurement data of a plurality of patterns to be examined that have similar or identical shapes of a design pattern used for manufacturing the patterns to be examined, and adjusting a defect determination threshold value in accordance with a measurement data distribution state.
(FR) L'objet de la présente invention est de fournir un dispositif d'évaluation de motif et un programme informatique permettant d'effectuer un examen de défaut efficace et précis en permettant différentes variations de fabrication en fonction de la partie d'un circuit examiné. Pour ce faire, l'invention concerne un programme informatique et un système d'examen qui comprennent un moyen permettant de traiter statistiquement des données de mesure d'une pluralité de motifs à examiner qui ont des formes similaires ou identiques d'un motif de conception utilisé pour la fabrication des motifs à examiner, et d'ajuster une valeur de seuil de détermination de défaut conformément à un état de distribution de données de mesure.
(JA) 本発明は回路の部位によって異なる製造ばらつきを許容し、効率的かつ正確な欠陥検査を行うことを目的とするパターン評価装置、及びコンピュータープログラムの提供を目的とする。上記目的を達成するために、検査対象パターンの製造に用いた設計パターンの形状が類似または同一の複数の検査対象パターンの計測データを統計処理し、計測データの分布状態に応じて欠陥判定閾値を調整する手段を有するコンピュータープログラム、検査システムを提案する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)