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1. (WO2018061456) 放射線位相差撮影装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/061456    国際出願番号:    PCT/JP2017/027566
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 28.07.2017
IPC:
A61B 6/00 (2006.01), G01N 23/20 (2006.01)
出願人: SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-Kuwabara-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP).
OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871 (JP)
発明者: SANO Satoshi; (JP).
TANABE Koichi; (JP).
YOSHIMUTA Toshinori; (JP).
KIMURA Kenji; (JP).
KISHIHARA Hiroyuki; (JP).
WADA Yukihisa; (JP).
IZUMI Takuro; (JP).
SHIRAI Taro; (JP).
DOKI Takahiro; (JP).
HORIBA Akira; (JP).
SHIMURA Takayoshi; (JP).
WATANABE Heiji; (JP).
HOSOI Takuji; (JP)
代理人: SUGITANI Tsutomu; (JP)
優先権情報:
2016-188208 27.09.2016 JP
発明の名称: (EN) RADIATION PHASE DIFFERENCE IMAGING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE À DIFFÉRENCE DE PHASE DE RAYONNEMENT
(JA) 放射線位相差撮影装置
要約: front page image
(EN)Provided is an X-ray phase difference imaging device whereby multiple imaging purposes can be addressed. This device is configured so that the arrangement pitch of slits pertaining to a multislit (3b) and the arrangement pitch of a phase shift part (5a) pertaining to a phase grating (5) can be changed. The positional relationship of the multislit (3b), the phase grating (5), and an FPD (4) is determined by the arrangement pitch of slits pertaining to the multislit (3b), the arrangement pitch of the phase shift part (5a) pertaining to the phase grating (5), and the arrangement pitch of a detection element pertaining to the FPD (4). Through the present invention, the positional relationship of the multislit (3b), the phase grating (5), and the FPD (4) can be changed by changing the arrangement pitch of the slits and the arrangement pitch of the phase shift part (5a).
(FR)L'invention concerne un dispositif d'imagerie à différence de phase de rayons X permettant de traiter de multiples objectifs d'imagerie. Ce dispositif est conçu de telle sorte que le pas d'agencement de fentes se rapportant à une multifente (3b) et le pas d'agencement d'une partie de déphasage (5a) appartenant à un réseau de phase (5) peuvent être modifiés. La relation de position de la multifente (3b), du réseau de phase (5) et d'un FPD (4) est déterminée par le pas d'agencement de fentes se rapportant à la multifente (3b), le pas d'agencement de la partie de déphasage (5a) se rapportant au réseau de phase (5), et le pas d'agencement d'un élément de détection se rapportant au FPD (4). Grâce à la présente invention, la relation de position de la multifente (3b), du réseau de phase (5) et du FPD (4) peut être modifiée en changeant le pas d'agencement des fentes et le pas d'agencement de la partie de déphasage (5a).
(JA)多様な撮影目的に対応することができるX線位相差撮影装置を提供する。本発明の装置は、マルチスリット(3b)に係るスリットの配列ピッチと位相格子(5)に係る位相シフト部(5a)の配列ピッチとが変更可能になっている。マルチスリット(3b),位相格子(5),FPD(4)の位置関係は、マルチスリット(3b)に係るスリットの配列ピッチ、位相格子(5)に係る位相シフト部(5a)の配列ピッチ、およびFPD(4)に係る検出素子の配列ピッチで決定されてしまう。本発明によれば、このうちスリットの配列ピッチと位相シフト部(5a)の配列ピッチとを変更することにより、マルチスリット(3b),位相格子(5),FPD(4)の位置関係を変更することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)