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1. (WO2018061365) 表面処理組成物
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国際公開番号: WO/2018/061365 国際出願番号: PCT/JP2017/023949
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 29.06.2017
IPC:
C11D 3/37 (2006.01) ,C11D 1/12 (2006.01) ,C11D 1/34 (2006.01) ,C11D 3/22 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
3
1/00に包含される洗浄性組成物の他の配合成分
16
有機化合物
37
重合体
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
1
本質的に表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物;その化合物の洗浄剤としての用途
02
陰イオン性化合物
12
スルホン酸または硫酸エステル;それらの塩
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
1
本質的に表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物;その化合物の洗浄剤としての用途
02
陰イオン性化合物
34
りんの酸からの誘導体
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
3
1/00に包含される洗浄性組成物の他の配合成分
16
有機化合物
20
酸素を含むもの
22
炭水化物またはその誘導体
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
発明者:
吉▲崎▼ 幸信 YOSHIZAKI, Yukinobu; JP
坂部 晃一 SAKABE, Koichi; JP
鎗田 哲 YARITA, Satoru; JP
古本 健一 KOMOTO, Kenichi; JP
代理人:
八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
優先権情報:
2016-19037528.09.2016JP
発明の名称: (EN) SURFACE TREATMENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理組成物
要約:
(EN) The present invention relates to a surface treatment composition which comprises at least one water-soluble polymer selected from the following group A, at least one anionic surfactant selected from the following group B, and water. Group A: water-soluble polysaccharides, poly(vinyl alcohol) and derivatives thereof, and polyvinylpyrrolidone and derivatives thereof (excluding any compounds involved in the group B). Group B: compounds having a sulfonic acid (salt) group, compounds having a sulfuric acid ester (salt) group, compounds having a phosphonic acid (salt) group, compounds having a phosphoric acid (salt) group, and compounds having a phosphinic acid (salt) group. The present invention can provide a surface treatment composition with which foreign matter, such as particles and organic residues, remaining on the surface of a polished work can be effectively removed.
(FR) L’invention concerne une composition de traitement de surface qui contient au moins une sorte de polymère hydrosoluble choisie dans le groupe (A), au moins une sorte de tensio-actif anionique choisie dans le groupe (B), et une eau. Groupe (A) : polysaccharide hydrosoluble, alcool polyvinylique ainsi que dérivé de celui-ci, et polyvinylpyrrolidone ainsi que dérivé de celui-ci (les composés contenus dans le groupe (B) étant exclus). Groupe (B) : composé possédant un groupe (sel) acide sulfonique, composé possédant un groupe (sel) ester d’acide sulfurique, composé possédant un groupe (sel) acide phosphonique, composé possédant un groupe (sel) acide phoshorique, et composé possédant un groupe (sel) acide phosphinique. Ainsi, l’invention fournit une composition de traitement de surface qui permet de retire de manière efficace des substances étrangères, telles que des particules ou des résidus de substances organiques, restées à la surface d’un objet à polir au moyen d’un agent de polissage.
(JA) 本発明は、下記A群から選択される少なくとも一種の水溶性高分子と、下記B群から選択される少なくとも一種のアニオン性界面活性剤と、水と、を含む、表面処理組成物に関する: A群:水溶性多糖類、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ならびにポリビニルピロリドンおよびその誘導体(ただし、下記B群に含まれる化合物を除く) B群:スルホン酸(塩)基を有する化合物、硫酸エステル(塩)基を有する化合物、ホスホン酸(塩)基を有する化合物、リン酸(塩)基を有する化合物、およびホスフィン酸(塩)基を有する化合物。本発明によれば、研磨済研磨対象物の表面に残留するパーティクルおよび有機物残渣といった異物を効率的に除去することができる表面処理組成物が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)