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1. (WO2018059612) ELECTRODE ARRANGEMENT FOR FORMING A DIELECTRIC BARRIER PLASMA DISCHARGE
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国際公開番号: WO/2018/059612 国際出願番号: PCT/DE2017/100612
国際公開日: 05.04.2018 国際出願日: 21.07.2017
予備審査請求日: 15.11.2017
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
[IPC code unknown for H05H 1/24][IPC code unknown for H05H 1/46]
出願人:
CINOGY GMBH [DE/DE]; Max-Näder-Strasse 15 37115 Duderstadt, DE
発明者:
WANDKE, Dirk; DE
TRUTWIG, Leonhard; DE
HAHNL, Mirko; DE
STORCK, Karl-Otto; DE
代理人:
GRAMM, LINS & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Theodor-Heuss-Straße 1 38122 Braunschweig, DE
優先権情報:
10 2016 118 569.830.09.2016DE
発明の名称: (EN) ELECTRODE ARRANGEMENT FOR FORMING A DIELECTRIC BARRIER PLASMA DISCHARGE
(FR) ARRANGEMENT D'ÉLECTRODES POUR FORMER UNE DÉCHARGE DE PLASMA À BARRIÈRE DIÉLECTRIQUE
(DE) ELEKTRODENANORDNUNG ZUR AUSBILDUNG EINER DIELEKTRISCH BEHINDERTEN PLASMAENTLADUNG
要約:
(EN) The invention relates to an electrode arrangement for forming a dielectric barrier plasma discharge between an electrode (1) supplied with an AC high voltage by a control device (20) and a treatment surface (21) of an electrically conductive body (22), said arrangement functioning as a ground electrode, wherein a dielectric material (8) completely covers the electrode (1) up to the treatment surface (21) and forms a contact side for the surface (21). The electrode arrangement permits effective and homogeneous formation of the plasma (23), in particular for large treatment surfaces (21), because the electrode (1) consists of at least two electrode portions (2, 3) arranged next to one another at the same distance (6) from the contact side and insulated from one another by the dielectric material (8), and because adjacent electrode portions are supplied by the control device with compensating partial AC voltages which are mirror-inverted in terms of the waveform and the voltage level.
(FR) L'invention concerne un arrangement d'électrodes destiné à former une décharge de plasma à barrière diélectrique entre une électrode (1) chargée avec une haute tension alternative par un dispositif de commande (20) et une surface (21) à traiter d'un corps (22) électriquement conducteur qui fait office d'électrode de masse. Un diélectrique (8) recouvre entièrement l'électrode (1) en direction de la surface (21) à traiter et forme un côté d'appui pour la surface (21). L'arrangement d'électrodes selon l'invention permet, notamment en présence de grandes surfaces (21) à traiter, une formation efficace et homogène du plasma (23) en ce que l'électrode (1) se compose d'au moins deux électrode partielles (2, 3) disposées l'une à côté de l'autre avec un même écart (6) par rapport au côté d'appui et isolées l'une de l'autre par le diélectrique (8), et en ce que les électrodes partielles voisines sont alimentées par le dispositif de commande avec des tensions alternatives dont la forme d'onde et l'amplitude de tension sont diamétralement opposées et qui se compensent mutuellement.
(DE) Eine Elektrodenanordnung zur Ausbildung einer dielektrisch behinderten Plasmaentladung zwischen einer von einer Steuereinrichtung (20) mit einer Wechselhochspannung gespeicherten Elektrode (1) und einer zu behandelnden Oberfläche (21) eines elektrisch leitfähigen Körpers (22), die als Masseelektrode dient, wobei ein Dielektrikum (8) die Elektrode (1) zur zu behandelnden Oberfläche (21) hin vollständig abdeckt und eine Anlageseite für die Oberfläche (21) bildet, ermöglicht insbesondere bei großen zu behandelnden Oberflächen (21) eine effektive und homogene Ausbildung des Plasmas (23) dadurch, dass die Elektrode (1) aus wenigstens zwei im gleichen Abstand (6) zur Anlageseite nebeneinander angeordneten und durch das Dielektrikum (8) voneinander isolierten Teilelektroden (2, 3) besteht und dass benachbarte Teilelektroden von der Steuereinrichtung mit bezüglich der Wellenform und der Spannungshöhe gegengleichen, sich kompensierenden Teil-Wechselspannungen gespeist werden.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: ドイツ語 (DE)
国際出願言語: ドイツ語 (DE)