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1. (WO2018056369) レジスト組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法

Pub. No.:    WO/2018/056369    International Application No.:    PCT/JP2017/034142
Publication Date: Fri Mar 30 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Sep 22 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/039
C08F 12/14
G03F 7/038
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: KANEKO, Akihiro
金子 明弘
HIRANO, Shuji
平野 修史
KAWASHIMA, Takashi
川島 敬史
OGAWA, Michihiro
小川 倫弘
FURUTANI, Hajime
古谷 創
NIHASHI, Wataru
二橋 亘
TSUBAKI, Hideaki
椿 英明
SAKITA, Kyohei
崎田 享平
Title: レジスト組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
Abstract:
酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大し、有機溶剤への溶解性が減少する樹脂を含有するレジスト組成物が提供される。上記樹脂は、芳香環に置換した*-OY0基を1個以上有する繰り返し単位(a)と、フェノール性水酸基(b)又は下記一般式(X)(式中、R1及びR2は、各々独立に、フッ素置換アルキル基、フッ素置換シクロアルキル基又はフッ素置換アリール基を表す。)で表される部分構造(c)を含む。ここで、*-OY0基は酸の作用により分解してフェノール性水酸基を生じる基であり、Y0は特定の保護基である。繰り返し単位(a)がフェノール性水酸基(b)及び部分構造(c)のいずれも含まない場合、繰り返し単位(a)は、酸の作用により*-OY0基が分解して2以上のフェノール性水酸基を生じる繰り返し単位である。 [化1]