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1. (WO2018056279) 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/056279 国際出願番号: PCT/JP2017/033802
国際公開日: 29.03.2018 国際出願日: 20.09.2017
IPC:
C07D 493/08 (2006.01) ,C08G 16/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
493
縮合系中に異項原子として酸素原子のみを含有する複素環式化合物
02
縮合系が2個の複素環を含有するもの
08
架橋系
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
16
アルデヒドまたはケトンの,グループC08G4/00からC08G14/00に属さない単量体との重縮合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.[JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者: ECHIGO, Masatoshi; JP
代理人: INABA, Yoshiyuki; JP
ONUKI, Toshifumi; JP
NAITO, Kazuhiko; JP
優先権情報:
2016-18306820.09.2016JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及びパターン形成方法
要約:
(EN) A compound selected from a group consisting of compounds represented by expression (1) is provided. (In expression (1), the RS's are independently a hydrogen atom, an alkyl group of 1-30 carbons optionally having a substituent, an aryl group of 6-30 carbons optionally having a substituent, an alkenyl group of 2-30 carbons optionally having a substituent, an alkoxy group of 1-30 carbons optionally having a substituent, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group or a hydroxy group, with the aforementioned alkyl group, aryl group, alkenyl group and alkoxy group optionally containing an ether bond, a ketone bond or an ester bond, and at least one RS's is a hydroxy group, the RT's are independently a hydrogen atom, an alkyl group of 1-30 carbons optionally having a substituent, an aryl group of 6-30 carbons optionally having a substituent, an alkenyl group of 2-30 carbons optionally having a substituent, an alkoxy group of 1-30 carbons optionally having a substituent, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group or a hydroxy group, with the aforementioned alkyl group, aryl group, alkenyl group and alkoxy group optionally including an ether bond, a ketone bond or an ester bond, and optionally including an annular structure through two RT's bonding together.)
(FR) L'invention concerne un composé choisi dans le groupe constitué par les composés représentés par l'expression (1). (Dans l'expression (1), les R S sont indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcoxy de 1 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un atome d'halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe thiol ou un groupe hydroxy, avec le groupe alkyle susmentionné, le groupe aryle, un groupe alcényle et un groupe alcoxy contenant éventuellement une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester, et au moins un R S est un groupe hydroxy, les R T sont indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe alcoxy de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un atome d'halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe thiol ou un groupe hydroxy, avec le groupe alkyle susmentionné, le groupe aryle, le groupe alcényle et le groupe alcoxy comprenant éventuellement une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester, et comprenant éventuellement une structure annulaire par l'intermédiaire de deux liaisons R T .)
(JA) 本発明は、下記式(1)で表される化合物からなる群より選ばれる、化合物を提供する。 (1) (式(1)中、Rは、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、Rの少なくとも1つは水酸基であり、 Rは、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、2つのRが結合して環状構造を含んでいてもよい。)
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)