このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018056145) 金属膜の積層構造
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/056145 国際出願番号: PCT/JP2017/033131
国際公開日: 29.03.2018 国際出願日: 13.09.2017
IPC:
C23C 28/00 (2006.01) ,B32B 15/01 (2006.01) ,B32B 15/08 (2006.01) ,C23C 18/42 (2006.01) ,C25D 5/54 (2006.01) ,C25D 7/00 (2006.01) ,H05K 3/18 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
28
メイングループC23C2/00からC23C26/00の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスC23CおよびC25Dに分類される方法の組合わせによる少なくとも2以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
01
すべての層がもっぱら金属質であるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
04
層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
08
合成樹脂の層に隣接したもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
31
金属による被覆
42
貴金属による被覆
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
5
方法に特徴のある電気鍍金;加工品の前処理または後処理
54
非金属表面の電気鍍金
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
7
被覆される物品に特徴のある電気鍍金
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
10
導電性物質が希望する導電模様を形成するように絶縁支持部材に施されるもの
18
導電性物質を付着するのに沈でん技術を用いるもの
出願人:
日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内2丁目7番3号 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006422, JP
発明者:
伊東 正浩 ITO Masahiro; JP
代理人:
宮崎 悟 MIYAZAKI Satoru; JP
優先権情報:
2016-18541423.09.2016JP
発明の名称: (EN) METAL FILM LAMINATE STRUCTURE
(FR) STRUCTURE STRATIFIÉE DE FILM MÉTALLIQUE
(JA) 金属膜の積層構造
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of the inability to form a uniform metal film due to weak adhesion of a deposition metal film making it impossible to obtain a uniform adhesive force, or due to partial aggregation of metal nanoparticles resulting in a decrease in the adsorption force of some of the metal nanoparticles with respect to a primer layer, and provides a metal film laminate structure in which metal nanoparticles of a catalyst layer are surrounded by a primer layer of which one end is bonded to a plating deposition layer. The metal film laminate structure of the present invention has a cross sectional structure in which three layers, namely a primer layer, a catalyst layer, and a plating deposition layer, are laminated on a base material, characterized in that the primer layer is a resin layer with a glass transition temperature (Tg) of 40 to 430°C, and the catalyst layer comprises a group of metal nanoparticles arranged in a planar fashion on the primer layer, wherein the group of metal nanoparticles comprises a metal of group IB or group VIIIB in the periodic table, and wherein the metal nanoparticles are surrounded by the primer layer, of which one end is bonded to the plating deposition layer.
(FR) La présente invention aborde le problème de l'incapacité de former un film métallique uniforme en raison de la faible adhérence d'un film métallique de dépôt qui empêche l'obtention d'une force adhésive uniforme, ou en raison de l'agrégation partielle de nanoparticules métalliques entraînant une réduction de la force d'adsorption de certaines des nanoparticules métalliques par rapport à une couche primaire, et elle fournit une structure stratifiée de film métallique dans laquelle des nanoparticules métalliques d'une couche de catalyseur sont entourées d'une couche primaire dont une extrémité est soudée à une couche de dépôt de placage. La structure stratifiée de film métallique selon l'invention présente une structure en coupe transversale dans laquelle trois couches, à savoir une couche primaire, une couche de catalyseur, et une couche de dépôt de placage, sont stratifiées sur un matériau de base, caractérisée en ce que la couche primaire est une couche de résine ayant une température de transition vitreuse (Tg) de 40 à 430 °C, et la couche de catalyseur comprend un groupe de nanoparticules métalliques agencées de manière plane sur la couche primaire, le groupe de nanoparticules métalliques comprenant un métal du groupe IB ou du groupe VIIIB du tableau périodique, les nanoparticules métalliques étant entourées de la couche primaire, dont une extrémité est soudée à la couche de dépôt de placage.
(JA) 本発明は、析出金属膜の密着性が弱く、均一な密着力が得られない、あるいは、部分的に金属ナノ粒子が凝集して一部の金属ナノ粒子の吸着力がプライマー層に対して弱くなるため均一な金属膜を形成することができないという課題を解決するためになされたものであり、触媒層の金属ナノ粒子がプライマー層に取り囲まれ、その一端がめっき析出層と連結している金属膜の積層構造を提供することにある。本発明の金属膜の積層構造は、基材上に、プライマー層、触媒層およびめっき析出層の3層が積層された断面構造において、当該プライマー層は、ガラス転移温度(Tg)が40~430℃の樹脂層であり、当該触媒層はプライマー層上に平面に整列された金属ナノ粒子群であり、その金属ナノ粒子群は周期律表のIB族またはVIIIB族の金属であり、かつ、その金属ナノ粒子はプライマー層に取り囲まれ、その一端がめっき析層と連結していることを特徴とする。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)