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1. (WO2018056038) 基板洗浄方法、基板洗浄レシピ作成方法、および基板洗浄レシピ作成装置

Pub. No.:    WO/2018/056038    International Application No.:    PCT/JP2017/031796
Publication Date: Fri Mar 30 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Sep 05 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/304
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: HIGUCHI, Ayumi
樋口 鮎美
KOMORI, Kana
小森 香奈
Title: 基板洗浄方法、基板洗浄レシピ作成方法、および基板洗浄レシピ作成装置
Abstract:
表面に酸化膜を有する基板を洗浄する基板洗浄方法が提供される。この方法は、前記酸化膜を所定の膜厚までエッチングする部分エッチング工程と、前記部分エッチング工程の後に、前記基板の表面に対して物理洗浄を実行する物理洗浄工程と、を含む。前記酸化膜は、パーティクルを少なくとも部分的に取り込んだ自然酸化膜であってもよい。この場合、前記部分エッチング工程は、前記パーティクルを前記自然酸化膜から露出させるか、または前記自然酸化膜からの露出部分を増加させる工程であってもよい。また、前記物理洗浄は、前記自然酸化膜を前記基板の表面に残しながら、前記自然酸化膜から露出したパーティクルを物理的な作用によって除去する工程であってもよい。