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1. (WO2018055941) 表面処理組成物
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国際公開番号: WO/2018/055941 国際出願番号: PCT/JP2017/029003
国際公開日: 29.03.2018 国際出願日: 09.08.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,C11D 7/22 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/304][IPC code unknown for C11D 7/22]
出願人:
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
発明者:
陳 景智 CHEN, Jingzhi; TW
代理人:
八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
優先権情報:
2016-18476821.09.2016JP
発明の名称: (EN) SURFACE TREATMENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理組成物
要約:
(EN) [Problem] To provide a surface treatment composition which has both silico-silicon bonds and nitrogen-silicon bonds and which can treat the surface of an object to be polished with a polishing agent by sufficiently removing defects on the surface of said object to be polished with a polishing agent. [Solution] This surface treatment composition, which is used in surface treatment of an object to be polished with a polishing agent, includes silico-silicon bonds and nitrogen-silicon bonds, has a pH of less than 9.0 and contains: (A), a nonionic water-soluble polymer having a primary chain consisting exclusively of carbon atoms, or of carbon atoms and nitrogen atoms; and (B), an anionic water-soluble polymer which has a primary chain consisting exclusively of carbon atoms, and a side chain which is bonded to said primary chain consisting exclusively of carbon atoms and which has a sulfonic acid group or a group having a salt thereof, or a carboxylic group or a group having a salt thereof.
(FR) [Problème] Fournir une composition de traitement de surface qui a à la fois des liaisons silico-silicium et des liaisons azote-silicium et qui peut traiter la surface d'un objet à polir avec un agent de polissage par élimination suffisante de défauts sur la surface dudit objet à polir avec un agent de polissage. [Solution] cette composition de traitement de surface, qui est utilisée dans le traitement de surface d'un objet à polir avec un agent de polissage, comprend des liaisons silico-silicium et des liaisons azote-silicium, a un pH inférieur à 9,0 et contient : (A), un polymère non ionique soluble dans l'eau ayant une chaîne primaire constituée exclusivement d'atomes de carbone, ou d'atomes de carbone et d'atomes d'azote; et (B), un polymère anionique soluble dans l'eau qui a une chaîne primaire constituée exclusivement d'atomes de carbone, et une chaîne latérale qui est liée à ladite chaîne principale constituée exclusivement d'atomes de carbone et qui a un groupe acide sulfonique ou un groupe ayant un sel de celui-ci, ou un groupe carboxylique ou un groupe ayant un sel de celui-ci.
(JA) 【課題】 ケイ素-ケイ素結合および窒素-ケイ素結合のいずれをも有する研磨済研磨対象物表面のディフェクトを十分に除去することで研磨済研磨対象物の表面を処理できる表面処理組成物を提供することである。 【解決手段】炭素原子のみ、または炭素原子と窒素原子とからなる主鎖を有するノニオン水溶性高分子(A)と;炭素原子のみからなる主鎖と、当該炭素原子のみからなる主鎖に結合している、スルホン酸基もしくはその塩を有する基またはカルボキシル基もしくはその塩を有する基を有する側鎖とを有するアニオン水溶性高分子(B)と;を含有し、ケイ素-ケイ素結合と、窒素-ケイ素結合とを含む、研磨済研磨対象物の表面処理に用いられる、pHが9.0未満である、表面処理組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)