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1. (WO2018055818) 基板処理管理装置、基板処理管理方法および基板処理管理プログラム
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国際公開番号: WO/2018/055818 国際出願番号: PCT/JP2017/013878
国際公開日: 29.03.2018 国際出願日: 03.04.2017
IPC:
G05B 19/418 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
05
制御;調整
B
制御系または調整系一般;このような系の機能要素;このような系または要素の監視または試験装置
19
プログラム制御系
02
電気式
418
総合的工場管理,すなわち,複数の機械の集中管理,例.直接または分散数値制御(DNC),フレキシブルマニュファクチャリングシステム(FMS),インテグレーテッドマニュファクチャリングシステム(IMS),コンピュータインテグレーテッドマニュファクチャリング(CIM)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
城 憲一郎 JO, Kenichiro; JP
中西 暁洋 NAKANISHI, Akihiro; JP
代理人:
福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
優先権情報:
2016-18281120.09.2016JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING MANAGEMENT DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING MANAGEMENT METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING MANAGEMENT PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE GESTION DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE GESTION DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROGRAMME DE GESTION DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理管理装置、基板処理管理方法および基板処理管理プログラム
要約:
(EN) History display data is acquired for displaying a history of processing of a plurality of substrates in a substrate processing device. On the basis of the acquired history display data, the history of the processing of the plurality of substrates is displayed by a display unit as a history chart. If, as arbitrary portions of the history chart which is displayed by the display unit, a plurality of elements which correspond both to different substrates and to the same process are accepted as a first and second element, first or secondary additional lines are displayed upon the history chart as traversing the portions which mutually correspond to the accepted first and second elements.
(FR) Selon la présente invention, des données d'affichage d'historique sont acquises de manière à afficher un historique de traitement d'une pluralité de substrats dans un dispositif de traitement de substrat. Sur la base des données d'affichage d'historique acquises, l'historique du traitement de la pluralité de substrats est affiché par une unité d'affichage en tant que graphique d'historique. Si, en tant que parties arbitraires du graphique d'historique qui est affiché par l'unité d'affichage, une pluralité d'éléments qui correspondent aussi bien aux différents substrats qu'au même processus sont acceptés en tant que premier et second éléments, des première ou seconde lignes supplémentaires sont affichées sur le graphique d'historique comme traversant les parties qui correspondent mutuellement aux premier et second éléments acceptés.
(JA) 基板処理装置における複数の基板の処理の履歴を表示するための履歴表示データが取得される。取得された履歴表示データに基づいて複数の基板の処理の履歴が履歴チャートとして表示部に表示される。表示部により表示された履歴チャートの任意の部分として、異なる基板に対応しかつ同じ処理に対応する複数の要素が第1および第2の要素として受け付けられた場合に、受け付けられた第1および第2の要素の互いに対応する部分を通る第1または第2の補助線が履歴チャート上に表示される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)