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1. (WO2018055801) 希釈薬液製造装置及び希釈薬液製造方法

Pub. No.:    WO/2018/055801    International Application No.:    PCT/JP2017/010275
Publication Date: Fri Mar 30 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Mar 15 00:59:59 CET 2017
IPC: C02F 1/68
B01D 19/00
B01F 1/00
B01F 5/06
B01J 23/42
B08B 3/08
C02F 1/20
C02F 1/58
H01L 21/304
Applicants: KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
栗田工業株式会社
Inventors: FUJIMURA Yu
藤村 侑
GAN Nobuko
顔 暢子
TOKOSHIMA Hiroto
床嶋 裕人
Title: 希釈薬液製造装置及び希釈薬液製造方法
Abstract:
希釈薬液の製造装置は、超純水Wの供給ライン1に白金族金属担持樹脂カラム2と、膜式脱気装置3と、ガス溶解膜装置4とを備え、白金族金属担持樹脂カラム2と膜式脱気装置3との間に洗浄薬液の注入装置5を設けた構成を有する。膜式脱気装置3の気相側には不活性ガス源6が接続しているとともにガス溶解膜装置4の気相側にも不活性ガス源7が接続していて、ガス溶解膜装置4には排出ライン8が連通している。かかる希釈薬液の製造装置によれば、半導体洗浄時の洗浄工程において、溶存酸素および溶存過酸化水素の両方を除去した希釈薬液を安全に製造・供給することが可能である。