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1. (WO2018052133) 研磨パッド
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Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/052133    国際出願番号:    PCT/JP2017/033533
国際公開日: 22.03.2018 国際出願日: 15.09.2017
IPC:
B24B 37/24 (2012.01), B24B 37/20 (2012.01), B24D 3/00 (2006.01), B24D 3/32 (2006.01), B24D 11/00 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01)
出願人: NITTA HAAS INCORPORATED [JP/JP]; 4-4-26, Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi, Osaka 5560022 (JP)
発明者: AKAJI, Masatoshi; (JP).
ITO, Kazunori; (JP).
KITA, Yoshio; (JP).
KAWAI, Naoko; (JP)
代理人: FUJIMOTO, Noboru; (JP)
優先権情報:
2016-181919 16.09.2016 JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッド
要約: front page image
(EN)The present invention is a polishing pad or the like, which comprises a pad main body that is formed of a polymer body containing a polyurethane resin and cerium oxide particles. The pad main body is a part that constitutes a polishing surface; and the cerium oxide particles are contained in the polymer body in the form of primary particles and secondary particles, in each of which a plurality of primary particles aggregate.
(FR)La présente invention est un tampon de polissage ou similaire, qui comprend un corps principal de tampon qui est formé d'un corps polymère contenant une résine de polyuréthane et des particules d'oxyde de cérium. Le corps principal de tampon est une partie qui constitue une surface de polissage ; et les particules d'oxyde de cérium sont contenues dans le corps polymère sous la forme de particules primaires et de particules secondaires, dans chacune desquelles une pluralité de particules primaires s'agglomèrent.
(JA)本発明は、ポリウレタン樹脂と酸化セリウム粒子とを含む高分子体によって形成されたパッド本体を有し、前記パッド本体が、研磨面を構成する部分となっており、前記酸化セリウム粒子は、1次粒子及び1次粒子が複数凝集した2次粒子となって前記高分子体に含まれる、研磨パッド等である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)