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1. (WO2018052028) 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法
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国際公開番号: WO/2018/052028 国際出願番号: PCT/JP2017/033071
国際公開日: 22.03.2018 国際出願日: 13.09.2017
IPC:
C07C 39/21 (2006.01) ,C07D 311/78 (2006.01) ,C08G 8/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
39
6員芳香環の炭素原子に結合している少なくとも1個の水酸基またはO―金属基をもつ化合物
205
環部分として6員芳香環のみを含有し,環以外に不飽和結合を有する多環式のもの
21
少なくとも1個の水酸基を非縮合環に有するもの
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
311
異項原子として1個の酸素原子のみをもつ6員環を含有し,他の環と縮合した複素環式化合物
02
炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの
78
3個またはそれ以上の関連する環をもつ環系
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
8
アルデヒドまたはケトンのフェノールのみとの重縮合体
04
アルデヒドの
08
ホルムアルデヒドの,例.その場で形成されたホルムアルデヒドの
20
多価フェノールとの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者:
越後 雅敏 ECHIGO, Masatoshi; JP
代理人:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
内藤 和彦 NAITO, Kazuhiko; JP
優先権情報:
2016-17844313.09.2016JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法
要約:
(EN) The present invention provides a compound that is represented by formula (0). (In formula (0), RY is a C1-30 alkyl group or a C6-30 aryl group; RZ is a C1-60 N-valent group or a single bond; each RT is independently an optionally substituted C1-30 alkyl group, an optionally substituted C6-30 aryl group, an optionally substituted C2-30 alkenyl group, an optionally substituted C1-30 alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group, or a hydroxyl group, the alkyl group, the aryl group, the alkenyl group, and the alkoxy group optionally including an ether linkage, a ketone linkage, or an ester linkage, at least one RT being a hydroxyl group, and at least one RT being a C2-30 alkenyl group; X is an oxygen atom, a sulfur atom, a single bond, or the absence of a crosslink; each m is independently an integer from 0 to 9, at least one being an integer from 2 to 9 or at least two being integers from 1 to 9; N is an integer from 1 to 4, the structures inside the N [ ] being the same or different when N is 2 or greater; and each r is independently an integer from 0 to 2.)
(FR) L’invention fournit un composé représenté par la formule (0). (Dans la formule (0), R représente un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ou un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone, R représente une liaison simple ou un groupe de valence N de 1 à 60 atomes de carbone, R représentent, chacun de manière indépendante, un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcoxy de 1 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un atome d’halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe thiol ou un groupe hydroxyle, lesdits groupe alkyle, groupe aryle, groupe alcényle et groupe alcoxy pouvant inclure une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison esther, au moins un R représente un groupe hydroxyle, et au moins un R représente un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone, X représente un atome d’oxygène, un atome de soufre, une liaison simple ou n’est pas réticulé, m représentent, chacun de manière indépendante, un nombre entier de 0 à 9, au moins un m représentant un nombre entier de 2 à 9, ou au moins deux m représentant un nombre entier de 1 à 9, N représente un nombre entier de 1 à 4, les formules structurales à l’intérieur de N paires de crochets pouvant être identiques ou différentes lorsque N est un nombre entier supérieur ou égal à 2, et r représentent, chacun de manière indépendante, un nombre entier de 0 à 2.)
(JA) 本発明は、下記式(0)で表される、化合物を提供する。(式(0)中、Rは、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基であり、 Rは、炭素数1~60のN価の基又は単結合であり、 Rは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、Rの少なくとも1つは水酸基であり、またRの少なくとも1つは炭素数2~30のアルケニル基であり、 Xは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、 mは、各々独立して0~9の整数であり、ここで、mの少なくとも1つは2~9の整数又はmの少なくとも2つは1~9の整数であり、 Nは、1~4の整数であり、ここで、Nが2以上の整数の場合、N個の[ ]内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、 rは、各々独立して0~2の整数である。)
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)