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1. (WO2018051987) ガラス基板、および積層基板
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国際公開番号:    WO/2018/051987    国際出願番号:    PCT/JP2017/032922
国際公開日: 22.03.2018 国際出願日: 12.09.2017
IPC:
C03C 3/085 (2006.01), B32B 17/06 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), C03C 17/06 (2006.01), H01L 23/15 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
発明者: SAWAMURA Shigeki; (JP).
ONO Kazutaka; (JP)
代理人: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2016-182125 16.09.2016 JP
2017-057619 23.03.2017 JP
発明の名称: (EN) GLASS SUBSTRATE AND LAMINATED SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT EN VERRE ET SUBSTRAT STRATIFIÉ
(JA) ガラス基板、および積層基板
要約: front page image
(EN)A first aspect of the present invention pertains to a glass substrate in which the alkali metal oxide content is 0-0.1% by mol percentage based on oxide, the viscosity at the devitrification temperature is 103.2 dPa∙s or higher, and the average coefficient of thermal expansion α at 30-220°C is 7.80-9.00 (ppm/°C). A second aspect of the present invention pertains to a glass substrate to be used in a support substrate for a semiconductor package in which the alkali metal oxide content is 0-0.1% by mol percentage based on oxide and the photoelastic constant C is 10-26 nm/cm/MPa.
(FR)La présente invention concerne, selon un premier aspect, un substrat en verre dans lequel la teneur en oxyde de métal alcalin varie de 0 à 0,1 % en pourcentage molaire sur la base de l'oxyde, la viscosité à la température de dévitrification est égale ou supérieure à 103,2 dPa∙s, et le coefficient moyen d'expansion thermique α à 30 à 220 °C varie de 7,80 à 9,00 (ppm/°C). La présente invention concerne, selon un second aspect, un substrat en verre à utiliser dans un substrat de support pour un boîtier de semi-conducteur dans lequel la teneur en oxyde de métal alcalin varie de 0 à 0,1 % en pourcentage molaire sur la base de l'oxyde et la constante photoélastique C varie de 10 à 26 nm/cm/MPa.
(JA)第一の発明は、アルカリ金属酸化物の含有量が酸化物基準のモル百分率表示で0~0.1%であり、失透温度粘性が103.2dPa・s以上であり、30℃~220℃での平均熱膨張係数αが7.80~9.00(ppm/℃)であるガラス基板に関する。第二の発明は、アルカリ金属酸化物の含有量が酸化物基準のモル百分率表示で0~0.1%であり、光弾性定数Cが、10~26nm/cm/MPaである、半導体パッケージ用の支持基板に用いるガラス基板に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)