国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018051851) 原盤、転写物、および原盤の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/051851    International Application No.:    PCT/JP2017/031991
Publication Date: Fri Mar 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Sep 06 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
B29C 33/38
B29C 59/04
G02B 1/118
G02B 5/18
G03F 7/20
Applicants: DEXERIALS CORPORATION
デクセリアルズ株式会社
Inventors: MURAMOTO, Yutaka
村本 穣
KIKUCHI, Masanao
菊池 正尚
Title: 原盤、転写物、および原盤の製造方法
Abstract:
【課題】凹部または凸部が高い配列精度で連続配列された凹凸構造を外周面に備える原盤と該原盤の製造方法を提供する。 【解決手段】原盤は、円筒または円柱形状の基材と、前記基材の外周面に形成された凹凸構造と、を備え、前記凹凸構造は、前記基材の周方向に、凹部または凸部が所定の周期で連続配列された構造であり、前記凹部または凸部は、前記基材の軸方向に隣接する周同士で、互いに所定の位相差を持って配列される。 該原盤の製造方法は、基準クロックを複数の信号生成回路で共有し、前記複数の信号生成回路の各々で回転制御信号と、露光信号とを生成するステップと、前記回転制御信号に基づいて、円筒または円柱形状の基材を、前記基材の中心軸を軸に回転させ、かつ前記露光信号に基づいて、前記基材の軸方向に走査しながら前記基材の外周面にレーザ光を照射し、前記基材の外周面にパターンを形成するステップと、を含む。