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1. (WO2018051792) ポリシロキサン構造含有化合物の製造方法及び高分子組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/051792    国際出願番号:    PCT/JP2017/031204
国際公開日: 22.03.2018 国際出願日: 30.08.2017
IPC:
C08G 77/06 (2006.01)
出願人: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921 (JP)
発明者: FUCHISE, Keita; (JP).
IGARASHI, Masayasu; (JP).
SHIMADA, Shigeru; (JP).
SATO, Kazuhiko; (JP)
代理人: HIRAKAWA, Akira; (JP).
SANUKI, Shinichi; (JP).
ISHIMARU, Ryohei; (JP)
優先権情報:
2016-179618 14.09.2016 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING POLYSILOXANE-STRUCTURE-CONTAINING COMPOUND, AND POLYMER COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ CONTENANT UN MOTIF POLYSILOXANE, ET COMPOSITION POLYMÈRE
(JA) ポリシロキサン構造含有化合物の製造方法及び高分子組成物
要約: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a process for producing a polysiloxane-structure-containing compound in which the polysiloxane structure has clear "repeating structures" and "terminal structures" and which can have a reduced molecular-weight dispersity ratio. A cyclic siloxane represented by formula (A) is polymerized by ring-opening polymerization using an organic base as a catalyst and using water or a specific compound as an initiator. Thus, a polysiloxane structure which has clear "repeating structures" and "terminal structures" and has a reduced molecular-weight dispersity ratio can be formed.
(FR)L'objectif de la présente invention est de fournir un procédé de production d'un composé contenant un motif polysiloxane dans lequel le motif polysiloxane comporte des « motifs répétés » et des « motifs terminaux » précis et qui peut présenter un rapport de dispersion des poids moléculaires réduit. Un siloxane cyclique représenté par la formule (A) est polymérisé par polymérisation par ouverture de cycle en utilisant une base organique en tant que catalyseur et de l'eau ou un composé spécifique en tant qu'initiateur. Ainsi, un motif polysiloxane comportant des « motifs répétés » et des « motifs terminaux » précis et qui présente un rapport de dispersion des poids moléculaires réduit peut être formé.
(JA)ポリシロキサン構造における「繰り返し構造」や「末端構造」が明確で、かつ分子量分散度を小さく抑えることができるポリシロキサン構造含有化合物の製造方法を提供することを目的とする。有機塩基を触媒とし、水や特定の化合物を開始剤として、下記式(A)で表される環状シロキサンを開環重合させることにより、「繰り返し構造」や「末端構造」が明確で、かつ分子量分散度を小さく抑えたポリシロキサン構造が形成できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)