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1. (WO2018051716) 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
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国際公開番号: WO/2018/051716 国際出願番号: PCT/JP2017/029547
国際公開日: 22.03.2018 国際出願日: 17.08.2017
IPC:
C07C 41/42 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
41
エーテルの製造;「図」基,「図」基または「図」基をもつ化合物の製造
01
エーテルの製造
34
分離;精製;安定化;添加剤の使用
40
物理的状態の変化によるもの,例.結晶化によるもの
42
蒸留によるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
16
塗布法;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
三和 晴子 MIWA Haruko; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2016-18099115.09.2016JP
発明の名称: (EN) ORGANIC SOLVENT REFINING METHOD AND ORGANIC SOLVENT REFINING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE RAFFINAGE DE SOLVANT ORGANIQUE ET APPAREIL DE RAFFINAGE DE SOLVANT ORGANIQUE
(JA) 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing an organic solvent refining method with which it is possible to obtain an organic solvent having excellent stability and restrict the occurrence of defects in a semiconductor device, and the present invention addresses the problem of providing an organic solvent refining apparatus. An organic solvent refining method according to the present invention comprises: a distillation step in which an organic solvent containing a stabilizer is distilled, the stabilizer in the organic solvent is diminished, and the content of the stabilizer in the organic solvent is made to be 0.1 to 30 ppm by mass; and after the distillation step, a refining step, in which the organic solvent is refined by using at least one member among a filter member having a filter of which the removed particle size is 20 nm or less and a metal ion adsorbing member, wherein the organic solvent refining method does not comprise an organic impurity removal step for removing organic impurities from the organic solvent by using an organic impurity adsorbing member.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir un procédé de raffinage de solvant organique avec lequel il est possible d'obtenir un solvant organique ayant une excellente stabilité et de restreindre l'apparition de défauts dans un dispositif semi-conducteur, et la présente invention aborde le problème de la fourniture d'un appareil de raffinage de solvant organique. Un procédé de raffinage de solvant organique selon la présente invention comprend : une étape de distillation dans laquelle un solvant organique contenant un stabilisant est distillé, le stabilisant dans le solvant organique est diminué, et la teneur du stabilisant dans le solvant organique est amenée à être compris entre 0,1 et 30 ppm en masse; et après l'étape de distillation, une étape de raffinage, dans laquelle le solvant organique est raffiné à l'aide d'au moins un élément parmi un élément de filtre ayant un filtre dont la taille de particule éliminée est inférieure ou égale à 20 nm et un élément d'adsorption d'ions métalliques, le procédé de raffinage de solvant organique ne comprenant pas d'étape d'élimination d'impuretés organiques pour éliminer les impuretés organiques du solvant organique en utilisant un élément d'adsorption d'impuretés organiques.
(JA) 本発明の課題は、安定性に優れた有機溶剤を得ることができ、かつ、半導体デバイスの欠陥発生を抑制できる有機溶剤の精製方法、および、有機溶剤の精製装置を提供することを目的とする。本発明の有機溶剤の精製方法は、安定化剤を含有する有機溶剤を蒸留して、上記有機溶剤中の上記安定化剤を減少させて、上記有機溶剤中の上記安定化剤の含有量を0.1~30質量ppmにする蒸留工程と、上記蒸留工程の後に、除粒子径が20nm以下であるフィルターを備えたろ過部材、および、金属イオン吸着部材のうち、少なくとも1つの部材を用いて、上記有機溶剤を精製する精製工程を含み、有機不純物吸着部材によって、上記有機溶剤中の有機不純物を除去する有機不純物除去工程を含まない。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)