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1. (WO2018047978) 強磁性材スパッタリングターゲット

Pub. No.:    WO/2018/047978    International Application No.:    PCT/JP2017/032932
Publication Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Sep 13 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/34
Applicants: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
JX金属株式会社
Inventors: SATO,Atsushi
佐藤 敦
Title: 強磁性材スパッタリングターゲット
Abstract:
スパッタリング時におけるパーティクルの発生を抑制可能なBN含有強磁性材スパッタリングターゲットを提供する。Bを1~40at.%、Nを1~30at.%含有し、強磁性金属を含有する金属相と非磁性材料相とを有する組織を備えたスパッタリングターゲットであって、当該組織をX線回折法により分析することにより得たX線回折プロファイルが立方晶窒化ホウ素由来の回折ピークを有するスパッタリングターゲット。