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1. (WO2018047729) 調光デバイス
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国際公開番号: WO/2018/047729 国際出願番号: PCT/JP2017/031531
国際公開日: 15.03.2018 国際出願日: 01.09.2017
IPC:
G02F 1/13 (2006.01) ,G02F 1/1334 (2006.01) ,G02F 1/1343 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1334
高分子分散型液晶(例.マイクロカプセル化液晶)に基づいたもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1343
電極
出願人:
北川工業株式会社 KITAGAWA INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 愛知県稲沢市目比町東折戸695番地1 695-1, Higashiorido, Mukui-cho, Inazawa-shi, Aichi 4928446, JP
発明者:
川口 康弘 KAWAGUCHI Yasuhiro; JP
朝川 一聡 ASAKAWA Kazuaki; JP
古田 健 FURUTA Ken; JP
代理人:
特許業務法人暁合同特許事務所 AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区栄二丁目1番1号 日土地名古屋ビル5階 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
2016-17361806.09.2016JP
発明の名称: (EN) DIMMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GRADATION
(JA) 調光デバイス
要約:
(EN) [Solution] This dimming device 10 is provided with a dimming layer 11 and a pair of electrode substrates 12, 12 for sandwiching the dimming layer 11. The electrode substrates 12 have a support layer 13 and an electrode layer 14 formed on the support layer 13 so as to face the dimming layer 11. The electrode layer 14 is characterized by including at least a metal-based thin-film layer 14a and a pair of metal oxide layers 14b, 14b for sandwiching the metal-based thin-film layer 14a.
(FR) La solution selon l'invention porte sur un dispositif de gradation (10) qui est pourvu d'une couche de gradation (11) et d'une paire de substrats d'électrode (12, 12) pour prendre en sandwich la couche de gradation (11). Les substrats d'électrode (12) ont une couche de support (13) et une couche d'électrode (14) formée sur la couche de support (13) de façon à faire face à la couche de gradation (11). La couche d'électrode (14) est caractérisée en ce qu'elle comprend au moins une couche de film mince à base de métal (14a) et une paire de couches d'oxyde métallique (14b, 14b) pour prendre en sandwich la couche de film mince à base de métal (14a).
(JA) 【解決手段】本発明の調光デバイス10は、調光層11と、この調光層11を挟む一対の電極基材12,12とを備える。電極基材12は、支持層13と、調光層11側を向く形で支持層13上に形成される電極層14とを有する。電極層14は、金属系薄膜層14aと、この金属系薄膜層14aを挟む一対の金属酸化物層14b,14bとを少なくとも含むことを特徴とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)