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1. (WO2018047609) 現像廃液の処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/047609 国際出願番号: PCT/JP2017/029665
国際公開日: 15.03.2018 国際出願日: 18.08.2017
IPC:
G03F 7/26 (2006.01) ,C02F 1/28 (2006.01) ,C02F 1/52 (2006.01) ,C02F 1/56 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
28
収着によるもの
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
52
懸濁不純物の凝集または沈殿によるもの
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
52
懸濁不純物の凝集または沈殿によるもの
54
有機物質を使用するもの
56
高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
出願人: FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者: SHIRAKAWA Masato; JP
KOZAWA Yusuke; JP
代理人: WATANABE Mochitoshi; JP
MIWA Haruko; JP
ITOH Hideaki; JP
MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2016-17700609.09.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PROCESSING DEVELOPER WASTE LIQUID
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE LIQUIDE USAGÉ DE DÉVELOPPATEUR
(JA) 現像廃液の処理方法
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a method for processing a developer waste liquid, which is excellent in terms of removal of floating materials. A method for processing a developer waste liquid according to the present invention comprises: a first processing step wherein an inorganic coagulating agent and an organic coagulating agent are added to a developer waste liquid that contains an uncured resin removed by development; and a second processing step wherein a flocculant is added simultaneously with or after the first processing step.
(FR) L’invention a pour objet de fournir un procédé de traitement de liquide usagé de développateur qui est excellent en termes de retrait de substance en suspension. Le procédé de traitement de liquide usagé de développateur de l’invention présente : une première étape de traitement au cours de laquelle un coagulant inorganique et un coagulant organique sont ajoutés à un liquide usagé de développateur contenant une résine non durcie retirée par un développement ; et une seconde étape de traitement au cours de laquelle un floculant est ajouté simultanément ou après la première étape de traitement.
(JA) 本発明は、浮遊物質の除去に優れる現像廃液の処理方法を提供することを課題とする。本発明の現像廃液の処理方法は、現像により除去された未硬化樹脂を含む現像廃液に対して、無機系凝結剤および有機系凝結剤を添加する第1処理工程と、第1処理工程と同時または第1処理工程の後に、凝集剤を添加する第2処理工程と、を有する現像廃液の処理方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)