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国際公開番号: WO/2018/047411 国際出願番号: PCT/JP2017/018035
国際公開日: 15.03.2018 国際出願日: 12.05.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人: ADVANTEST CORPORATION[JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071, JP
発明者: YAMADA Akio; JP
OKAWA Tatsuro; JP
KUROKAWA Masaki; JP
代理人: RYUKA IP LAW FIRM; JP
優先権情報:
2016-17356406.09.2016JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE DATA STRUCTURE
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET STRUCTURE DE DONNÉES D'EXPOSITION
(JA) 露光装置および露光データ構造
要約:
(EN) [Problem] To provide an exposure apparatus and an exposure data structure for distributing beam control data to a plurality of column units that generate a plurality of charged particle beams. [Solution] Provided is an exposure apparatus comprising: a plurality of column units that generate a plurality of charged particle beams arranged in a first direction; column control units that individually control the irradiation timings of the charged particle beams; a conversion unit that converts design data describing the arrangement coordinates of a device pattern to exposure data consisting of second data divided into strip-shaped areas each having a width of one charged particle beam and extending in a second direction and of first data determining the second data on the basis of position in the first direction; a first storage unit that stores the exposure data; and a distribution unit that rearranges, according to the exposure order, and distributes the exposure data to the respective column units. Also provided are an exposure data structure and a beam control data creation method both used for such an exposure apparatus.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un appareil d'exposition et une structure de données d'exposition permettant de distribuer des données de commande de faisceau à une pluralité d'unités de colonne qui génèrent une pluralité de faisceaux de particules chargées. La solution selon l'invention porte sur un appareil d'exposition comprenant : une pluralité d'unités de colonne qui génèrent une pluralité de faisceaux de particules chargées agencés dans une première direction ; des unités de commande de colonne qui commandent individuellement les synchronisations de rayonnement des faisceaux de particules chargées ; une unité de conversion qui convertit des données de conception décrivant les coordonnées d'agencement d'un motif de dispositif en données d'exposition constituées de secondes données divisées en zones en forme de bande possédant chacune une largeur d'un faisceau de particules chargées et s'étendant dans une seconde direction, et de premières données déterminant les secondes données sur la base de la position dans la première direction ; une première unité de stockage qui stocke les données d'exposition ; et une unité de distribution qui réagence selon l'ordre d'exposition et distribue les données d'exposition aux unités de colonne respectives. L'invention concerne également une structure de données d'exposition et un procédé de création de données de commande de faisceau, servant tous deux à cet appareil d'exposition.
(JA) 【課題】複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部にビーム制御データを分配する露光装置および露光データ構造を提供する。 【解決手段】第1の方向に配列した複数の荷電粒子ビームを発生する複数のカラム部と、荷電粒子ビームの照射タイミングを個別に制御するカラム制御部と、デバイスパターンの配置座標を記述した設計データをもとに、1本の荷電粒子ビームの幅を有し第2の方向に伸びた帯状の領域に分割してなる第2のデータと第1の方向の位置に基づいて当該第2のデータを特定する第1のデータとよりなる露光データに変換する変換部と、露光データを格納する第1保存部と、露光順序に従って露光データを再構成してカラム部のそれぞれに分配する分配部と、を備える露光装置、およびそのような露光装置用の露光データ構造およびビーム制御データの作成方法を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)