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1. (WO2018047280) レーザ装置
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国際公開番号: WO/2018/047280 国際出願番号: PCT/JP2016/076521
国際公開日: 15.03.2018 国際出願日: 08.09.2016
IPC:
H01S 3/036 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
S
誘導放出を用いた装置
3
レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置
02
構造的な細部
03
ガスレーザ放電管
036
管の中の望ましいガス圧力を取得または維持するための手段,例.残留ガスの除去または補充;ガスを循環させるための手段,例.管の中の圧力を均等にするためのもの
出願人:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
発明者:
浅山 武志 ASAYAMA Takeshi; JP
増田 浩幸 MASUDA Hiroyuki; JP
代理人:
保坂 延寿 HOSAKA Nobuhisa; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) LASER DEVICE
(FR) DISPOSITIF LASER
(JA) レーザ装置
要約:
(EN) This laser device is provided with: a chamber with a pair of discharge electrodes arranged therein; a gas supplying and exhausting device which supplies a laser gas into the chamber and exhausts the laser gas that is inside the chamber; and a control unit configured to perform a first control which controls the gas supplying and exhausting device to stop laser oscillation and replace the laser gas inside the chamber for each first shot count or for each first elapsed time, and prior to the first control, a second control which controls the gas supplying and exhausting device to stop the laser oscillation and replace the laser gas inside the chamber for each second count, which is fewer than the first shot count, or for each second elapsed time, which is shorter than the first elapsed time.
(FR) Ce dispositif laser est pourvu : d'une chambre dotée d'une paire d'électrodes de décharge agencées en son sein ; d'un dispositif d'alimentation et d'évacuation de gaz qui fournit un gaz laser dans la chambre et évacue le gaz laser qui est à l'intérieur de la chambre ; et d'une unité de commande configurée pour effectuer une première commande qui commande le dispositif d'alimentation et d'évacuation de gaz pour arrêter l'oscillation laser et remplacer le gaz laser à l'intérieur de la chambre pour chaque premier comptage de coups ou pour chaque premier temps écoulé, et avant la première commande, une seconde commande qui commande le dispositif d'alimentation et d'évacuation de gaz pour arrêter l'oscillation laser et remplacer le gaz laser à l'intérieur de la chambre pour chaque second comptage, qui est inférieur au premier comptage de coups, ou pour chaque second temps écoulé, qui est plus court que le premier temps écoulé.
(JA) レーザ装置は、一対の放電電極が内部に配置されたチャンバと、チャンバの内部にレーザガスを供給し、チャンバの内部のレーザガスを排気するガス供給排気装置と、制御部であって、第1のショット数ごとに又は第1の経過時間ごとに、レーザ発振を停止させてチャンバ内のレーザガスを交換するように、ガス供給排気装置を制御する、第1の制御と、第1の制御より前に、第1のショット数より少ない第2のショット数ごとに又は第1の経過時間より短い第2の経過時間ごとに、レーザ発振を停止させてチャンバ内のレーザガスを交換するように、ガス供給排気装置を制御する、第2の制御と、を行うように構成された制御部と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)