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1. (WO2018047220) レーザ装置およびレーザアニール装置

Pub. No.:    WO/2018/047220    International Application No.:    PCT/JP2016/076103
Publication Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Sep 07 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 21/268
Applicants: GIGAPHOTON INC.
ギガフォトン株式会社
Inventors: TANAKA, Satoshi
田中 智史
WAKABAYASHI, Osamu
若林 理
Title: レーザ装置およびレーザアニール装置
Abstract:
レーザアニール用のレーザ装置は、以下を備える:A.パルスレーザ光を出力するレーザ発振器;及び、B.レーザ発振器から出力されたパルスレーザ光の光路上に配置され、入射したパルスレーザ光のパルス時間幅をストレッチする少なくとも1つのOPSを含むOPS装置であって、OPSのうち、遅延光路の長さである遅延光路長Lが最小となる第1のOPSの遅延光路長L(1)が、以下の式(A)の範囲にあるOPS装置。 ΔT75%×c≦L(1)≦ΔT25%×c・・・・・式(A) ここで、ΔTa%は、前記レーザ発振器から出力され、前記OPS装置に入射するパルスレーザ光の入力波形において、光強度がピーク値に対してa%の値を示す位置の時間全幅であり、cは光速である。