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1. (WO2018043697) 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
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国際公開番号: WO/2018/043697 国際出願番号: PCT/JP2017/031557
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 01.09.2017
IPC:
B01D 15/00 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,B01D 61/58 (2006.01) ,B01J 39/05 (2017.01) ,B01J 39/20 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
15
固体吸着剤による液体の処理を含む分離方法;その装置
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
14
限外ろ過;精密ろ過
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
58
多段階工程
[IPC code unknown for B01J 39/05]
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
39
陽イオン交換;陽イオン交換体としての物質の使用;陽イオン交換特性を改良するための物質の処理
08
陽イオン交換体としての物質の使用;陽イオン交換特性を改良するための物質の処理
16
有機物質
18
高分子化合物
20
炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
16
塗布法;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
三和 晴子 MIWA Haruko; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2016-17218102.09.2016JP
2017-16566230.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PURIFYING ORGANIC SOLVENT, AND DEVICE FOR PURIFYING ORGANIC SOLVENT
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PURIFICATION DE SOLVANT ORGANIQUE
(JA) 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing: a method for purifying an organic solvent which is capable of inhibiting the occurrence of defects in semiconductor devices; and a device for purifying the organic solvent. This method for purifying the organic solvent includes an organic impurity removal step in which an organic impurity adsorption member is used to remove an organic impurity in the organic solvent.
(FR) L’invention a pour objet de fournir un procédé de purification de solvant organique et un dispositif de purification de solvant organique qui permettent d’inhiber l’apparition de défauts dans un dispositif à semi-conducteurs. Le procédé de purification de solvant organique de l’invention inclut une étape d’élimination des impuretés organiques au cours de laquelle les impuretés organiques contenues dans un solvant organique sont éliminées.
(JA) 本発明の課題は、半導体デバイスの欠陥の発生を抑制できる有機溶剤の精製方法、および、有機溶剤の精製装置を提供することである。本発明の有機溶剤の精製方法は、有機不純物吸着部材によって、有機溶剤中の有機不純物を除去する有機不純物除去工程を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)