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1. (WO2018043680) 非磁性材料分散型Fe-Pt系スパッタリングターゲット

Pub. No.:    WO/2018/043680    International Application No.:    PCT/JP2017/031469
Publication Date: Fri Mar 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/34
B22F 1/00
C22C 5/04
C22C 28/00
C22C 38/00
G11B 5/64
G11B 5/851
B22F 3/14
B22F 3/15
Applicants: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
JX金属株式会社
Inventors: SATO,Atsushi
佐藤 敦
TAKAMI,Hideo
高見 英生
NAKAMURA,Yuichiro
中村 祐一郎
Title: 非磁性材料分散型Fe-Pt系スパッタリングターゲット
Abstract:
Fe-Pt磁性相を規則化するための熱処理温度を低下させることが可能なスパッタリングターゲットであって、スパッタ時にパーティクルの発生が抑制されたスパッタリングターゲットを提供する。Fe、Pt及びGeを含有する非磁性材料分散型のスパッタリングターゲットであって、Fe、Pt及びGeについて原子数比で(Fe1-αPtα)1-βGeβ(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.05≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を満足する磁性相を有し、該磁性相は、スパッタリングターゲットのスパッタ面に対する垂直断面を研磨したときの研磨面のEPMAによる元素マッピングにおいて、Geの濃度が30質量%以上であるGe基合金相の面積比率(SGe30質量%)の平均の、スパッタリングターゲットの全体組成から計算されるGeの面積比率(SGe)に対する割合(SGe30質量%/SGe)が、0.5以下であるスパッタリングターゲット。