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1. (WO2018043410) トリアリールジアミン含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/043410    国際出願番号:    PCT/JP2017/030758
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 28.08.2017
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), C08G 12/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: Saito, Daigo; (JP).
HASHIMOTO, Keisuke; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
代理人: HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2016-170915 01.09.2016 JP
発明の名称: (EN) RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING TRIARYLDIAMINE-CONTAINING NOVOLAC RESIN
(FR) COMPOSANT FORMANT UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT UNE RÉSINE NOVOLAQUE CONTENANT DU TRIARYLDIAMINE
(JA) トリアリールジアミン含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a material for forming a resist underlayer film that is used in a lithography process and has heat resistance, planarization properties and etching resistance at the same time. [Solution] A resist underlayer film forming composition which contains a polymer that comprises a unit structure represented by formula (1). (In formula (1), R1 represents an organic group that contains at least two amines and at least three aromatic rings having 6 to 40 carbon atoms; each of R2 and R3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, a heterocyclic group or a combination of these groups, and the alkyl group, the aryl group and the heterocyclic group may be substituted by a halogen group, a nitro group, an amino group, a formyl group, an alkoxy group or a hydroxy group; or alternatively, R2 and R3 may combine with each other to form a ring.) The above-described composition wherein R1 is a divalent organic group derived from N, N'-diphenyl-1, 4-phenylenediamine.
(FR)La présente invention a pour objet un matériau servant à former un film de sous-couche de réserve qui est utilisé dans un processus lithographique et présente simultanément une résistance à la chaleur, des propriétés de planarisation et une résistance à la gravure chimique. Une composition formant un film de sous-couche de réserve contient un polymère qui comprend une structure unitaire représentée par la formule (1). (Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique qui contient au moins deux amines et au moins trois anneaux aromatiques ayant 6 à 40 atomes de carbone ; chacun des R2 et R3 représente un atome d’hydrogène, un groupe d’alkyles ayant 1 à 10 atomes de carbone, un groupe d’aryles ayant 6 à o 40 atomes de carbone, un groupe hétérocyclique ou une combinaison de ces groupes, et le groupe d’alkyles, le groupe d’aryles et le groupe hétérocyclique peuvent être substitués par un groupe d’halogènes, un groupe nitro-, un groupe amino-, un groupe formyl-, un groupe alkoxy- ou un groupe hydroxy- ; ou en variante, R2 et R3 peuvent se combiner l’un l’autre pour former un anneau.) La composition décrite ci-dessus dans laquelle R1 est un groupe organique divalent dérivé de N, N'-diphényl-1, 4-phénylènediamine.
(JA)【課題】 耐熱性、平坦化性、及び耐エッチング性を兼ね備えたリソグラフィー工程に用いられるレジスト下層膜を形成するための材料を提供する。 【解決手段】下記式(1):(式(1)中、Rは少なくとも2つのアミンと少なくとも3つの炭素数6乃至40の芳香族環とを含む有機基であり、 R及びRはそれぞれ、水素原子、炭素数1乃至10のアルキル基、炭素数6乃至40のアリール基、複素環基、又はそれらの組み合わせであり、かつ、該アルキル基、該アリール基、該複素環基は、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、ホルミル基、アルコキシ基、又はヒドロキシ基で置換されていても良く、あるいはR及びRは一緒になって環を形成していても良い。)で示される単位構造を含むポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。RがN,N'-ジフェニル-1,4-フェニレンジアミンから誘導される2価の有機基である上記組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)