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1. (WO2018043257) 露光装置及び露光方法
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Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/043257    国際出願番号:    PCT/JP2017/030184
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 23.08.2017
IPC:
G03F 7/22 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
発明者: TOGASHI Takumi; (JP).
HARADA Tomonori; (JP).
NAGAI Kazuma; (JP)
代理人: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2016-167193 29.08.2016 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置及び露光方法
要約: front page image
(EN)This exposure device is provided with: a substrate holding unit (2) that holds a substrate (W) having a plurality of exposure regions (E1-E6); a mask holding unit (1) that holds a mask (M), on which a pattern having a size substantially equal to that of an exposure region (E) is formed; a substrate transfer unit (10) capable of transferring the substrate (W) in the predetermined direction; a mask transfer unit (40) capable of transferring the mask (M) in the predetermined direction; a mask drive unit (50) capable of adjusting alignment between the substrate (W) and the mask (M); and an illuminating device (3) that irradiates the exposure region (E) with exposure light via the mask (M).
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition comprenant : une unité de maintien de substrat (2) qui maintient un substrat (W) comportant une pluralité de régions d'exposition (E1 à E6) ; une unité de maintien de masque (1) qui maintient un masque (M), sur lequel est formé un motif ayant une taille sensiblement égale à celle d'une région d'exposition (E) ; une unité de transfert de substrat (10) apte à transférer le substrat (W) dans la direction prédéterminée ; une unité de transfert de masque (40) apte à transférer le masque (M) dans la direction prédéterminée ; une unité d'entraînement de masque (50) apte à ajuster l'alignement entre le substrat (W) et le masque (M) ; et un dispositif d'éclairage (3) qui expose la région d'exposition (E) à une lumière d'exposition par l'intermédiaire du masque (M).
(JA)露光装置は、複数の露光領域(E1)~(E6)を有する基板(W)を保持する基板保持部(2)と、露光領域(E)と略等しい大きさを有するパターンが形成されたマスク(M)を保持するマスク保持部(1)と、基板(W)を所定の方向に搬送可能な基板搬送部(10)と、マスク(M)を所定の方向に搬送可能なマスク搬送部(40)と、基板(W)とマスク(M)とのアライメントを調整可能なマスク駆動部(50)と、マスク(M)を介して露光領域(E)に露光光を照射する照明装置(3)と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)