このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018043147) 光合成微細藻類の培養方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/043147 国際出願番号: PCT/JP2017/029514
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 17.08.2017
IPC:
C12N 1/12 (2006.01) ,C12P 7/26 (2006.01)
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
N
微生物または酵素;その組成物;微生物の増殖,保存,維持;突然変異または遺伝子工学;培地
1
微生物,例.原生動物;その組成物;微生物またはその組成物の増殖,維持,保存方法;微生物を含む組成物の単離または調製方法;そのための培地
12
単細胞藻類;そのための培地
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
P
発酵または酵素を使用して所望の化学物質もしくは組成物を合成する方法またはラセミ混合物から光学異性体を分離する方法
7
酸素原子を含む有機化合物の製造
24
カルボニル基を含むもの
26
ケトン
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
松本 陽子 MATSUMOTO Yoko; JP
石倉 正治 ISHIKURA Masaharu; JP
鈴木 廣志 SUZUKI Hiroshi; JP
代理人:
特許業務法人SSINPAT SSINPAT PATENT FIRM; 東京都品川区西五反田七丁目13番6号 五反田山崎ビル6階 Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
優先権情報:
2016-17092601.09.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR CULTURING PHOTOSYNTHETIC MICROALGAE
(FR) PROCÉDÉ DE CULTURE DE MICROALGUES PHOTOSYNTHÉTIQUES
(JA) 光合成微細藻類の培養方法
要約:
(EN) The present invention provides a method for culturing photosynthetic microalgae, with which it is possible to obtain xanthophyll more efficiently compared to conventional art. This culturing method comprises a step for subjecting, to light irradiation, encysted photosynthetic microalgae including 3-9 mass% of xanthophyll in terms of dry mass, wherein, in the step for performing said light irradiation, it is preferable to keep the content of xanthophyll in the photosynthetic microalgae to 2 mass% or higher in terms of dry mass. The step for performing said light irradiation preferably involves: (A) a step for increasing the number of cells by performing light irradiation (a); and (B) a step for increasing the content of xanthophyll in the photosynthetic microalgae by subjecting, to light irradiation (b), the photosynthetic microalgae that has undergone the step (A) for increasing the number of cells.
(FR) La présente invention concerne un procédé de culture de microalgues photosynthétiques, permettant d'obtenir de la xanthophylle de manière plus efficace par comparaison avec l'état de la technique. Ce procédé de culture comprend une étape destinée à soumettre, à une exposition à un rayonnement lumineux, des microalgues photosynthétiques enkystées comprenant de 3 à 9 % en masse de xanthophylle en termes de masse sèche. Lors de l'étape de mise en œuvre de ladite exposition à un rayonnement lumineux, il est préférable de maintenir la teneur en xanthophylle dans les microalgues photosynthétiques à une valeur supérieure ou égale à 2 % en masse en termes de masse sèche. L'étape de mise en œuvre de ladite exposition à un rayonnement lumineux comprend de préférence : (A) une étape destinée à augmenter le nombre de cellules en mettant en œuvre une exposition à un rayonnement lumineux (a); et (B) une étape destinée à augmenter la teneur en xanthophylle dans les microalgues photosynthétiques en soumettant, à une exposition à un rayonnement lumineux (b), les microalgues photosynthétiques qui ont subi l'étape (A) destinée à augmenter le nombre de cellules.
(JA) 本発明は、従来よりも効率的にキサントフィルを得ることが可能な、光合成微細藻類の培養方法を提供する。本発明の培養方法は、キサントフィルを乾燥質量換算で3~9質量%含むシスト化した光合成微細藻類に光照射を行う工程を有し、前記光照射を行う工程において、光合成微細藻類のキサントフィル含有量を、乾燥質量換算で2質量%以上に保つことが好ましい。前記光照射を行う工程は、光照射(a)を行う細胞数増加工程(A)および、前記細胞数増加工程(A)が行われた光合成微細藻類に、光照射(b)を行う光合成微細藻類中のキサントフィル含有量を増加させる工程(B)から成ることが好ましい。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)