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1. (WO2018043054) ドレッサー
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国際公開番号: WO/2018/043054 国際出願番号: PCT/JP2017/028633
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 07.08.2017
IPC:
B24B 53/12 (2006.01) ,B24B 53/017 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
53
研削面のドレッシングまたは正常化のための装置または手段
12
ドレッシング工具;そのためのホルダー
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
53
研削面のドレッシングまたは正常化のための装置または手段
017
ラップ工具のドレッシング,洗浄またはその他の調整のための装置と手段
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
信越半導体株式会社 SHIN-ETSU HANDOTAI CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区大手町二丁目2番1号 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
発明者:
浅井 一将 ASAI Kazumasa; JP
▲高▼野 智史 TAKANO Tomofumi; JP
代理人:
好宮 幹夫 YOSHIMIYA Mikio; JP
小林 俊弘 KOBAYASHI Toshihiro; JP
優先権情報:
2016-16939631.08.2016JP
発明の名称: (EN) DRESSER
(FR) DRESSEUR
(JA) ドレッサー
要約:
(EN) The present invention provides a dresser provided with a diamond plate on which diamond abrasive grains, for dressing upper and lower polishing cloths of a double-side polishing machine, are fixed, the dresser being characterized by being provided with: an inner ring (2); an outer ring (3) having a larger diameter than the inner ring, disposed to be concentric with the inner ring and outside the inner ring, and having a connection part connected to the inner ring; and a diamond plate (5) disposed between the inner ring and the outer ring, having a side surface retained by an outer peripheral portion of the inner ring and an inner peripheral portion of the outer ring, and having a greater thickness than the inner ring and the outer ring, wherein the diamond plate is retained in a non-fixed manner in the thickness direction of the diamond plate by the outer peripheral portion of the inner ring and the inner peripheral portion of the outer ring and can float in the thickness direction of the diamond plate. Thus, there is provided a dresser having a high thickness precision, enabling uniform dressing to be efficiently performed, and having a lighter weight than conventional dressers.
(FR) La présente invention concerne un dresseur, lequel comporte une plaque de diamant sur laquelle sont fixés des grains abrasifs en diamant, pour le dressage de tissus de polissage supérieur et inférieur d'une machine de polissage double face. Le dresseur est caractérisé en ce qu'il comporte : une bague interne (2) ; une bague externe (3) dotée d'un diamètre plus grand que la bague interne, disposée de façon à être concentrique par rapport à la bague interne et à l'extérieur de la bague interne, et dotée d'une partie liaison liée à la bague interne ; et une plaque de diamant (5) disposée entre la bague interne et la bague externe, dotée d'une surface latérale retenue par une partie périphérique externe de la bague interne et une partie périphérique interne de la bague externe, et dotée d'une épaisseur supérieure à celle de la bague interne et de la bague externe, la plaque de diamant étant maintenue de manière non fixe dans le sens de l’épaisseur de la plaque de diamant par la partie périphérique externe de la bague interne et la partie périphérique interne de la bague externe et pouvant flotter dans le sens de l'épaisseur de la plaque de diamant. Ainsi, l'invention concerne un dresseur doté d'une précision d'épaisseur élevée, permettant de réaliser efficacement un dressage uniforme, et doté d'un poids plus léger que les dresseurs classiques.
(JA) 本発明は、両面研磨装置の上下研磨布をドレッシングするためのダイヤモンド砥粒を固着したダイヤプレートを具備するドレッサーであって、内リング(2)と、内リングよりも直径が大きく、内リングの外側に内リングと同心円状に配置され、内リングに連結する連結部を有する外リング(3)と、内リングと外リングとの間に配置され、内リングの外周部と外リングの内周部によって側面を保持され、厚さが内リングと外リングよりも厚いダイヤプレート(5)と、を具備し、ダイヤプレートが、内リングの外周部と外リングの内周部に、ダイヤプレートの厚さ方向に非固定で保持されたものであることで、ダイヤプレートの厚さ方向に浮動可能なものであることを特徴とするドレッサーである。これにより、厚さ精度が高く、効率よく均一なドレッシングが可能であり、また、従来よりも軽量なドレッサーが提供される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)