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1. (WO2018043046) 機能性細線付き基材及び機能性細線の形成方法
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国際公開番号: WO/2018/043046 国際出願番号: PCT/JP2017/028604
国際公開日: 08.03.2018 国際出願日: 07.08.2017
IPC:
B32B 3/14 (2006.01) ,B32B 27/36 (2006.01) ,H01B 5/14 (2006.01) ,H01B 13/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01) ,H05B 33/26 (2006.01) ,H05B 33/28 (2006.01) ,H05K 3/24 (2006.01)
[IPC code unknown for B32B 3/14][IPC code unknown for B32B 27/36][IPC code unknown for H01B 5/14][IPC code unknown for H01B 13][IPC code unknown for H01L 51/50][IPC code unknown for H05B 33/02][IPC code unknown for H05B 33/10][IPC code unknown for H05B 33/22][IPC code unknown for H05B 33/26][IPC code unknown for H05B 33/28][IPC code unknown for H05K 3/24]
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
山内 正好 YAMAUCHI Masayoshi; JP
大屋 秀信 OHYA Hidenobu; JP
小俣 猛憲 OMATA Takenori; JP
新妻 直人 NIIZUMA Naoto; JP
代理人:
特許業務法人信友国際特許事務所 SHIN-YU INTERNATIONAL PATENT FIRM; 東京都渋谷区笹塚2-1-6 笹塚センタービル Sasazuka Center Bldg., 2-1-6, Sasazuka, Shibuya-ku, Tokyo 1510073, JP
優先権情報:
2016-17037131.08.2016JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL FINE LINE AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL FINE LINE
(FR) SUBSTRAT À LIGNE FINE FONCTIONNELLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE LIGNE FINE FONCTIONNELLE
(JA) 機能性細線付き基材及び機能性細線の形成方法
要約:
(EN) Provided are a substrate with a functional fine line, and a method for forming a functional fine line, in which the adhesion of the functional fine line is excellent in optical properties. The substrate with a functional fine line according to the present invention has, on a substrate, an undercoat layer comprising a hydrophobically modified polyester resin, and has, on the undercoat layer, a functional fine line comprising a deposit of functional microparticles and having a line width of 1-10 μm. In the method for forming a functional fine line according to the present invention, an undercoat layer comprising a hydrophobically modified polyester resin is formed on a substrate, and a functional fine line comprising a deposit of functional microparticles and having a line width of 1-10 μm is next formed on the undercoat layer.
(FR) La présente invention concerne un substrat doté d'une ligne fine fonctionnelle, et un procédé de formation d'une ligne fine fonctionnelle, dans lequel l'adhérence de la ligne fine fonctionnelle présente d'excellentes propriétés optiques. Le substrat à ligne fine fonctionnelle selon la présente invention présente, sur un substrat, une sous-couche comprenant une résine de polyester à modification hydrophobe, et présente, sur la sous-couche, une ligne fine fonctionnelle comprenant un dépôt de microparticules fonctionnelles et présentant une largeur de ligne de 1 à 10 µm. Dans le procédé de formation d'une ligne fine fonctionnelle selon la présente invention, une sous-couche comprenant une résine de polyester à modification hydrophobe est formée sur un substrat, et une ligne fine fonctionnelle comprenant un dépôt de microparticules fonctionnelles et présentant une largeur de ligne de 1 à 10 µm est ensuite formée sur la sous-couche.
(JA) 光学特性や、機能性細線の密着性に優れる機能性細線付き基材及び機能性細線の形成方法を提供する。本発明に係る機能性細線付き基材は、基材上に疎水性変性されたポリエステル樹脂からなる下引き層を有し、該下引き層上に機能性微粒子の堆積物からなる線幅が1μm以上10μm以下の機能性細線を有する。本発明に係る機能性細線の形成方法は、基材上に疎水性変性されたポリエステル樹脂からなる下引き層を形成し、次いで、該下引き層上に機能性微粒子の堆積物からなる線幅が1μm以上10μm以下の機能性細線を形成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)